Carrier density control of epitaxial NiO thin films grown using mist CVD method
Carrier density control of epitaxial NiO thin films grown using mist CVD method
复制标题
雾气CVD法生长外延NiO薄膜的载流子密度控制
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Tetsuji Hirato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takumi Ikenoue;Masao Miyake;and Tetsuji Hirato
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