Using electrical resistance asymmetries to infer the geometric shapes of foundry patterned nanophotonic structures.
Using electrical resistance asymmetries to infer the geometric shapes of foundry patterned nanophotonic structures.
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利用电阻不对称性来推断铸造图案化纳米光子结构的几何形状。
DOI：
10.1364/oe.460803
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
3.8
通讯作者：
Mittal V
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Mittal V
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用于硅光子学应用中曲面设计的 OPC
DOI：
10.1117/12.2230400
发表时间：
2016
期刊：
2017 IEEE 14th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
影响因子：
--
作者：
B. Orlando;V. Farys;L. Schneider;S. Crémer;S. Postnikov;M. Milléquant;Mathieu Dirrenberger;C. Tiphine;S. Bayle;C. Tranquillin;P. Schiavone
通讯作者：
P. Schiavone
几何敏感硅光子波导交叉点中的光学邻近校正
DOI：
10.1109/group4.2017.8082188
发表时间：
2017
期刊：
2017 IEEE 14th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
影响因子：
--
作者：
D. Celo;P. Dumais;W. Liu;C. Zhang;D. Goodwill;J. Jiang;E. Bernier
通讯作者：
E. Bernier
使用马赫-曾德尔干涉仪进行硅光子波导计量。
影响因子：
3.8
作者：
C. Oton;C. Manganelli;F. Bontempi;M. Fournier;D. Fowler;C. Kopp
通讯作者：
C. Kopp
影响因子：
10.3
作者：
Rausch, Christopher;Nahangi, Mohammad;Liang, Wanhua
通讯作者：
Liang, Wanhua