Plasma-assisted pulsed laser deposition of carbon films : effect of oxygen plasma on amorphous carbon film etching
Plasma-assisted pulsed laser deposition of carbon films : effect of oxygen plasma on amorphous carbon film etching
复制标题
碳膜的等离子体辅助脉冲激光沉积：氧等离子体对非晶碳膜蚀刻的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M.Itoh
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh
登录
查看更多内容
等离子体辅助脉冲激光沉积法制备非晶氮化碳薄膜
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Appl.Phys.A 79
影响因子：
--
作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh;K.Takaki;田澤 将太;M.A.Bratescu;M.A.Bratescu;伊藤 雅孝
通讯作者：
伊藤 雅孝
碳烧蚀羽流中的电子和激发粒子密度
影响因子：
6.7
作者：
M. Bratescu;Y. Sakai;Daisuke Yamaoka;Y. Suda;H. Sugawara
通讯作者：
H. Sugawara
氮气射频等离子体辅助碳激光烧蚀中激发粒子的光谱测量
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Appl.Phys.A 79
影响因子：
--
作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh;K.Takaki;田澤 将太;M.A.Bratescu;M.A.Bratescu
通讯作者：
M.A.Bratescu
射频氧放电中原子氧在有机聚合物蚀刻中的作用
影响因子：
3.2
作者：
E. Collart;J. Baggerman;R. J. Visser
通讯作者：
R. J. Visser
脉冲激光烧蚀石墨同质外延生长金刚石单相薄膜
影响因子：
1.5
作者：
T. Yoshitake;T. Nishiyama;K. Nagayama
通讯作者：
K. Nagayama