Amorphous carbon nitride film preparation by plasma-assisted pulsed laser deposition method
Amorphous carbon nitride film preparation by plasma-assisted pulsed laser deposition method
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等离子体辅助脉冲激光沉积法制备非晶氮化碳薄膜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
伊藤 雅孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh;K.Takaki;田澤 将太;M.A.Bratescu;M.A.Bratescu;伊藤 雅孝
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氮含量对脉冲激光沉积a-CNx薄膜场发射性能的影响
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6.7
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E. Fogarassy;T. Szörényi;F. Antoni;J. Stoquert;G. Pirio;J. Olivier;P. Legagneux;P. Boher;O. Pons
通讯作者：
O. Pons
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6.7
作者：
M. Bratescu;Y. Sakai;Daisuke Yamaoka;Y. Suda;H. Sugawara
通讯作者：
H. Sugawara
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DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Appl.Phys.A 79
影响因子：
--
作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh;K.Takaki;田澤 将太;M.A.Bratescu;M.A.Bratescu
通讯作者：
M.A.Bratescu
通过射频等离子体反应脉冲激光烧蚀沉积氮化硼薄膜
影响因子：
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通讯作者：
A. Santagata
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影响因子：
1.5
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