Parallel optical trap assisted nanopatterning on rough surfaces
Parallel optical trap assisted nanopatterning on rough surfaces
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粗糙表面上的平行光陷阱辅助纳米图案化
DOI：
10.1088/0957-4484/23/16/165304
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
3.5
通讯作者：
Arnold
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fardel;Schmidt;Arnold
目前有许多光学光刻技术可以在大面积的坚硬平面上产生纳米结构。然而，很少有技术能够在柔软材料或具有预先存在结构的表面上创建这样的图案。为了满足这一需求，我们展示了平行光阱辅助纳米图（OTAN）的使用，以提供一种高效且稳健的直接写入方法来产生纳米级特征，而无需焦平面调整。在垂直步长大于1.5 μ m的聚酰亚胺模型表面上进行平行图像化，其特征尺寸的不确定性优于4%，横向定位精度为25 nm。采用布朗运动模型来描述定位精度，使人们能够预测系统参数的变化将如何影响纳米图案的结果。这些综合结果表明，OTAN是在非传统表面上大规模并行直写纳米光刻的可行技术。
There exist many optical lithography techniques for generating nanostructures on hard, flat surfaces over large areas. However, few techniques are able to create such patterns on soft materials or surfaces with pre-existing structure. To address this need, we demonstrate the use of parallel optical trap assisted nanopatterning (OTAN) to provide an efficient and robust direct-write method of producing nanoscale features without the need for focal plane adjustment. Parallel patterning on model surfaces of polyimide with vertical steps greater than 1.5 µm shows a feature size uncertainty better than 4% across the step and lateral positional accuracy of 25 nm. A Brownian motion model is used to describe the positional accuracy enabling one to predict how variation in system parameters will affect the nanopatterning results. These combined results suggest that OTAN is a viable technique for massively parallel direct-write nanolithography on non-traditional surfaces.
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