O-Band Subwavelength Grating Filters in a Monolithic Photonics Technology

O-Band Subwavelength Grating Filters in a Monolithic Photonics Technology
复制标题

单片光子技术中的 O 波段亚波长光栅滤波器

DOI:
10.1109/lpt.2020.3017096
复制
发表时间:
2020
影响因子:
2.6
通讯作者:
Sowinski, Zoey
Sowinski, Zoey
中科院分区:
工程技术3区
文献类型:
--
作者:
Afzal, Francis O.;Bian, Yusheng;Peng, Bo;Hu, Shuren;Aboketaf, Abdelsalam;Dezfulian, Kevin K.;Nummy, Karen;Stricker, Andy;Hedges, Crystal;Sowinski, Zoey

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

用于硅光子工具箱的低串扰制造不敏感中阶梯光栅多路复用器和无源器件
DOI: --
发表时间: 2015
期刊: Photonics West - Optoelectronic Materials and Devices
影响因子: --
作者:
C. Sciancalepore;R. Lycett;Jacques;S. Pauliac;K. Hassan;J. Harduin;H. Duprez;U. Weidenmueller;D. Gallagher;S. Menezo;Badhise Ben
通讯作者: Badhise Ben
使用 UV 光刻的 O 波段硅光子布拉格光栅多路复用器
DOI: --
发表时间: 2016
期刊: Optical Fiber Communications Conference and Exhibition
影响因子: --
作者:
J. St;S. Larochelle;W. Shi
通讯作者: W. Shi
适用于 100 GbE 的绝缘体上硅粗波分复用器
DOI: 10.1109/group4.2015.7305928
发表时间: 2015
期刊: 2015 IEEE 12th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
影响因子: --
作者:
S. Dwivedi;P. De Heyn;P. Absil;J. Van Campenhout;W. Bogaerts
通讯作者: W. Bogaerts
单片硅光子学的图案化挑战:AP/DFM:先进的图案化/可制造性设计
DOI: --
发表时间: 2018
期刊: Advanced Semiconductor Manufacturing Conference
影响因子: --
作者:
Colleen Meagher;Z. Sowinski;Chienfan Yu;Shuren Hu;K. Nummy;M. Ghosal;Ramya Viswanathan;A. Abdo;T. Wiltshire
通讯作者: T. Wiltshire
DOI: 10.1109/jlt.2019.2956779
发表时间: 2020-01
影响因子: 4.7
作者:
Xiang Zhou;R. Urata;Hong Liu
通讯作者: Xiang Zhou;R. Urata;Hong Liu