An efficient and reliable growth method for epitaxial complex oxide films by molecular beam epitaxy
An efficient and reliable growth method for epitaxial complex oxide films by molecular beam epitaxy
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一种高效可靠的分子束外延复合氧化物外延薄膜生长方法
DOI：
10.1063/1.4990663
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发表时间：
2017-06
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
X. Q. Pan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. W. Zhang;Z. W. Mao;Z. B. Gu;Y. F. Nie;X. Q. Pan
过渡金属氧化物异质结构和界面托管各种激发量子相，并可以通过利用原位反射高能电子衍射的强度振荡以原子级精度生长。然而，在复杂氧化物膜的生长校准中建立稳定的振荡模式是非常具有挑战性和耗时的。在这里，我们开发了一个更有效和可靠的复杂的氧化物薄膜，使用分子束外延生长校准方法。
Transition metal oxide heterostructures and interfaces host a variety of exciting quantum phases and can be grown with atomic-scale precision by utilising the intensity oscillations of in situ reflection high-energy electron diffraction. However, establishing a stable oscillation pattern in the growth calibration of complex oxide films is very challenging and time consuming. Here, we develop a substantially more efficient and reliable growth calibration method for complex oxide films using molecular beam epitaxy.
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DOI：
10.4018/978-1-59140-053-0.ch001
发表时间：
2003
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
M. Rafanelli
通讯作者：
M. Rafanelli
影响因子：
1.7
作者：
Haeni, JH;Theis, CD;Schlom, DG
通讯作者：
Schlom, DG
影响因子：
6.7
作者：
Md. Nurul Kabir Bhuiyan;A. Matsuda;T. Yasumura;T. Tambo;C. Tatsuyama
通讯作者：
Md. Nurul Kabir Bhuiyan;A. Matsuda;T. Yasumura;T. Tambo;C. Tatsuyama
影响因子：
64.8
作者：
MAENO, Y;HASHIMOTO, H;LICHTENBERG, F
通讯作者：
LICHTENBERG, F
影响因子：
1.9
作者：
M. C. Sullivan;M. Ward;A. Gutiérrez–Llorente;E. Adler;H. Joress;A. Woll;J. Brock
通讯作者：
M. C. Sullivan;M. Ward;A. Gutiérrez–Llorente;E. Adler;H. Joress;A. Woll;J. Brock