Depolarization effects from nanoimprinted grating structures as measured by Mueller matrix polarimetry
Depolarization effects from nanoimprinted grating structures as measured by Mueller matrix polarimetry
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通过穆勒矩阵偏振法测量纳米压印光栅结构的去偏振效应
DOI：
10.1063/1.4824760
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发表时间：
2013-10
影响因子：
4
通讯作者：
Liu, Shiyuan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Chen, Xiuguo;Zhang, Chuanwei;Liu, Shiyuan
采用Mueller矩阵偏振法（MMP）对纳米压印光栅结构进行了表征，并从测量数据中观察到了明显的去偏振效应。我们表明，这些退偏效应主要是由有限的带宽和数值孔径的仪器，以及被测样品的剩余层厚度的变化。在将去偏振效应纳入光学模型之后，不仅可以实现线宽、线高和残余层厚度测量的改进的精度，而且可以通过MMP直接确定照明光斑上的残余层厚度变化。
Mueller matrix polarimetry (MMP) is introduced to characterize nanoimprinted grating structures, and noticeable depolarization effects from measured data are observed. We demonstrate that these depolarization effects are mainly induced by the finite bandwidth and numerical aperture of the instrument, as well as the residual layer thickness variation of the measured sample. After incorporating the depolarization effects into the optical model, not only improved accuracy can be achieved for the line width, line height, and residual layer thickness measurement but also the residual layer thickness variation over the illumination spot can be directly determined by MMP.
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DOI：
10.1002/9780470060193
发表时间：
2007
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Hiroyuki Fujiwara;Download Here
通讯作者：
Hiroyuki Fujiwara;Download Here
DOI：
10.1080/713821924
发表时间：
1986-02-01
期刊：
OPTICA ACTA
影响因子：
--
作者：
GIL, JJ;BERNABEU, E
通讯作者：
BERNABEU, E
DOI：
10.1117/12.2011487
发表时间：
2013-04
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Xiuguo Chen;Shiyuan Liu;Chuanwei Zhang;Hao Jiang
通讯作者：
Xiuguo Chen;Shiyuan Liu;Chuanwei Zhang;Hao Jiang
DOI：
10.1364/josaa.13.001870
发表时间：
1996-09-01
影响因子：
1.9
作者：
Li, LF
通讯作者：
Li, LF
影响因子：
1
作者：
M. Foldyna;A. Martino;E. García-Caurel;R. Ossikovski;C. Licitra;F. Bertin;K. Postava;B. Drévillon-B.-Drévill
通讯作者：
M. Foldyna;A. Martino;E. García-Caurel;R. Ossikovski;C. Licitra;F. Bertin;K. Postava;B. Drévillon-B.-Drévill