Control of atomic layer degradation on Si substrate,

Control of atomic layer degradation on Si substrate,
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控制硅衬底上原子层退化,

DOI:
--
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发表时间:
2007
期刊:
J. Vac. Sci. Tech. A (印刷中)
影响因子:
--
通讯作者:
S.Iseda
S.Iseda
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Y.Nakamura;T.Tatsumi;S.Kobayashi;K.Kugimiya;T.Harano;A.Ando;T.Kawase;S.Hamaguchi;S.Iseda

文献摘要

参考文献

被引文献

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