Graphoepitaxy of diblock copolymers for lithographic application
Graphoepitaxy of diblock copolymers for lithographic application
复制标题
用于光刻应用的二嵌段共聚物的图形外延
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Iyoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Yamaguchi;H.Yamaguchi;T.Iyoda
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影响因子：
3.9
作者：
Dulcey, CS;Georger, JH;Calvert, JM
通讯作者：
Calvert, JM
抗蚀图案引导对称二嵌段共聚物自组装
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Journal of Photopolymer Scinece and Technology 19
影响因子：
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作者：
三浦陽子;他;T. Yamaguchi
通讯作者：
T. Yamaguchi
DOI：
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发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
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作者：
D. Petera;M. Muthukumar
通讯作者：
M. Muthukumar
影响因子：
29.4
作者：
Segalman, RA;Yokoyama, H;Kramer, EJ
通讯作者：
Kramer, EJ