Development of High-Speed Rotation Polishing System with Slurry Confinement and Friction-State Control
Development of High-Speed Rotation Polishing System with Slurry Confinement and Friction-State Control
复制标题
具有浆料约束和摩擦状态控制的高速旋转抛光系统的开发
DOI：
10.20965/ijat.2023.p0055
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发表时间：
2023
影响因子：
1.1
通讯作者：
Atsunobu Une
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kenichiro Yoshitomi ;Yoshinori Shimada;Atsunobu Une
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优化双面抛光条件以实现高平整度：考虑相对运动方向
DOI：
10.20965/ijat.2009.p0581
发表时间：
2009
期刊：
Int. J. Autom. Technol.
影响因子：
--
作者：
K. Hirose;T. Enomoto
通讯作者：
T. Enomoto
使用小工具的振荡速度控制型抛光（第三次报告）
DOI：
10.2493/jspe.70.1201
发表时间：
2004
期刊：
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影响因子：
--
作者：
A. Une;K. Yoshitomi;M. Mochida
通讯作者：
M. Mochida
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DOI：
10.20965/ijat.2011.p0195
发表时间：
2011
期刊：
Int. J. Autom. Technol.
影响因子：
--
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通讯作者：
Keisuke Suzuki
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影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
A. Hosokawa
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影响因子：
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作者：
N. Suzuki;Y. Hashimoto
通讯作者：
Y. Hashimoto