Laser‐induced front side etching of fused silica with KrF excimer laser using thin chromium layers
Laser‐induced front side etching of fused silica with KrF excimer laser using thin chromium layers
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使用薄铬层利用 KrF 准分子激光器对熔融石英进行激光诱导正面蚀刻
DOI：
10.1002/pssa.201127672
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Zimmer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
P. Lorenz;M. Ehrhardt;K. Zimmer
激光诱导正面蚀刻（LIFE）是一种利用薄吸收层对透明材料进行激光蚀刻的方法。这种方法是背面蚀刻技术的直接进步。在本研究中，采用波长为248 nm的纳秒级KrF准分子激光刻蚀了具有薄铬层的熔融二氧化硅作为辐射吸收剂。激光通量可达10 J/cm2，脉冲数可达10个，层厚可达2 ~ 250 nm。用显微镜（白光干涉法，WLI，扫描电镜，SEM）和光谱学方法（能量色散X射线光谱学（EDX））对处理后的熔融二氧化硅进行分析。LIFE过程的示意图。LIFE方法允许在中等激光影响（2-6 J/cm2）下对熔融二氧化硅进行纳米精度的刻蚀（rms≤8 nm）。
Laser‐induced front side etching (LIFE) is a method for laser etching of transparent materials using thin absorber layers. This approach is a straightforward advancement of the back side etching techniques. Within this study the etching of fused silica with thin chromium layers as radiation absorbers is presented using nanosecond KrF excimer laser with a wavelength of 248 nm. The laser fluence up to 10 J/cm2, the number of pulses up to 10 as well as the layer thickness from 2 to 250 nm is varied. The treated fused silica was analysed with microscopic (white light interferometry, WLI, scanning electron microscopy, SEM) and spectroscopic methods (energy‐dispersive X‐ray spectroscopy (EDX)).Schematic illustration of the LIFE process.The LIFE method allows the nm‐precision etching (rms ≤ 8 nm) of fused silica at moderate laser fluences (2–6 J/cm2).
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