Preparation of Ga doped ZnO thin films by helicon-wave-excited plasma sputtering
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螺旋波激发等离子体溅射制备Ga掺杂ZnO薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Masaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Takahata;K. Saiki;T. Imao;H. Nakanishi;M. Sugiyama;S. F. Chichibu;H.Amaike;S.Takahata;S.Masaki;S. Takahata;S. Masaki
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