Interpretation of dominant impurities in Cu films by SIMS and GDMS

Interpretation of dominant impurities in Cu films by SIMS and GDMS
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通过 SIMS 和 GDMS 解释铜膜中的主要杂质

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
Jpn.J.Appl.Phys. 44・1
影响因子:
--
通讯作者:
J.-W.Lim
J.-W.Lim
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Keiichi;N.;Ishihara;Fumie;Kubo;Kohei;Irie;Kazuyoshi;Shichi;Eiji;Yamasue;Hideyuki;Okumura;J.-W.Lim

文献摘要

参考文献

被引文献

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