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An Epr-Endor Study of Exoelectron Emission Traps in Ceramic And Single Crystalline Beo
陶瓷和单晶 Beo 外激电子发射陷阱的 EPR-Endor 研究
基本信息
- 批准号：7503281
- 负责人：
- 金额：$ 1.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1975
- 资助国家：美国
- 起止时间：1975-12-01 至 1977-05-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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- 资助金额：
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