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X-Ray Studies of the Behavior of Titanium and Molybdenum Films on Silicon Substrates

X-Ray Studies of the Behavior of Titanium and Molybdenum Films on Silicon Substrates
硅衬底上钛和钼薄膜行为的 X 射线研究
批准号：
7517201
负责人：
C. Houska
金额：
$16.07万
依托单位：
Virginia Polytechnic Institute and State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1976
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1976-03-01 至 1980-08-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=7517201&HistoricalAwards=false
关键词：
RayStudiesBehaviorTitaniumMolybdenum

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