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Influence of Sputtering Parameters on Film Structure

Influence of Sputtering Parameters on Film Structure
溅射参数对薄膜结构的影响
批准号:
8000933
负责人:
C. Houska
金额:
$4.23万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1980
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1980-05-15 至 1982-05-31

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