Acquisition of Thin Film Sputtering Equipment
Acquisition of Thin Film Sputtering Equipment
批准号:
7811753
负责人:
C. Houska
金额:
$4.03万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1979
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1979-02-01 至 1980-07-31
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会议论文
Influence of Sputtering Parameters on Film Structure
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批准号:8000933
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$4.23万
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财政年份:1980
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负责人:C. Houska
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依托单位:
X-Ray Studies of the Behavior of Titanium and Molybdenum Films on Silicon Substrates
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批准号:7517201
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$16.07万
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财政年份:1976
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负责人:C. Houska
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依托单位:
Development of X-Ray Diffraction Techniques to Study Diffusion in Single Crystal and Polycrystalline Composites
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批准号:7302364
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$11.88万
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财政年份:1973
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负责人:C. Houska
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依托单位:
海外基金