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Semiconductor Processing By Electron Beam Pulse - Induced Surface Reactions

Semiconductor Processing By Electron Beam Pulse - Induced Surface Reactions
通过电子束脉冲诱导表面反应进行半导体加工
批准号：
7917715
负责人：
Allen Kirkpatrick
金额：
$0.0万
依托单位：
Spire Corporation
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1979
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1979-10-01 至 1980-03-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=7917715&HistoricalAwards=false
关键词：
SemiconductorProcessingElectronBeamPulse

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SBIR Phase I: Graphite to Diamond Transformation by Gas Cluster Ion Beam Transient Processing
  • 批准号：
    9661626
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $7.5万
  • 财政年份：
    1997
  • 负责人：
    Allen Kirkpatrick
  • 依托单位：
    EPION CORPORATION
Silicon Thin Film Crystallization and Solar Cell Fabrication
  • 批准号：
    7606096
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $23.93万
  • 财政年份：
    1976
  • 负责人：
    Allen Kirkpatrick
  • 依托单位：
    Simulation Physics Inc
国内基金
海外基金
Sirt1通过调控Gli3 processing维持SHH信号促进髓母细胞瘤的发展及机制研究
  • 批准号：
    82373900
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    48万元
  • 批准年份：
    2023
  • 负责人：
    王媛
  • 依托单位：
    苏州大学
靶向Gli3 processing调控Shh信号通路的新型抑制剂治疗儿童髓母细胞瘤及相关作用机制研究
  • 批准号：
    82104210
  • 项目类别：
    青年科学基金项目（C类）
  • 资助金额：
    30.0万元
  • 批准年份：
    2021
  • 负责人：
    丰涛
  • 依托单位：
    苏州大学