Presidential Young Investigator Award: Low Temperature Processing for Very Large Scale Integration
Presidential Young Investigator Award: Low Temperature Processing for Very Large Scale Integration
批准号:
8352399
负责人:
Rafael Reif
金额:
$31.25万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Continuing Grant
财政年份:
1984
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1984-07-01 至 1989-12-31
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会议论文
MIT Microfabrication Infrastructure
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批准号:9512183
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$34.38万
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财政年份:1995
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负责人:Rafael Reif
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依托单位:
A Low Temperature Technology for Three-Dimensional Integrated Circuits
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批准号:8303450
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$22.09万
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财政年份:1983
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负责人:Rafael Reif
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依托单位:
Low Temperature Epitaxial Deposition of Silicon By Plasma Enhanced Cvd
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批准号:8024306
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项目类别:Continuing grant
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1981
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负责人:Rafael Reif
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依托单位:
海外基金