A Low Temperature Technology for Three-Dimensional Integrated Circuits

三维集成电路低温技术

基本信息

  • 批准号:
    8303450
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 22.09万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 财政年份:
    1983
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1983-05-15 至 1986-10-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Rafael Reif其他文献

Effect of rinsing and drying on silicon surface cleaning for epitaxial growth
  • DOI:
    10.1007/bf03027244
  • 发表时间:
    2002-10-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.000
  • 作者:
    Hyoun Woo Kim;Kwang-sik Kim;Woon-suk Hwang;Rafael Reif
  • 通讯作者:
    Rafael Reif
Low temperature cleaning of Si by a H2/AsH3 plasma prior to heteroepitaxial growth of GaAs by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)
  • DOI:
    10.1007/bf02651294
  • 发表时间:
    1990-04-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.500
  • 作者:
    Euijoon Yoon;Patrice Parris;Rafael Reif
  • 通讯作者:
    Rafael Reif
IV-1 – Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • DOI:
    10.1016/b978-0-08-052421-4.50015-0
  • 发表时间:
    1991
  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    Rafael Reif
  • 通讯作者:
    Rafael Reif
Structural characterization of low temperature Epi-silicon grown on {100} and {111} Si substrates using ultrahigh resolution cross-sectional TEM
  • DOI:
    10.1007/bf02665034
  • 发表时间:
    1993-02-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.500
  • 作者:
    Zhizhen Ye;Yaping Liu;Zhen-Hong Zhou;Rafael Reif
  • 通讯作者:
    Rafael Reif

Rafael Reif的其他文献

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  • 通讯作者:
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{{ truncateString('Rafael Reif', 18)}}的其他基金

MIT Microfabrication Infrastructure
麻省理工学院微加工基础设施
  • 批准号:
    9512183
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Presidential Young Investigator Award: Low Temperature Processing for Very Large Scale Integration
总统青年研究员奖:超大规模集成的低温处理
  • 批准号:
    8352399
  • 财政年份:
    1984
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
Low Temperature Epitaxial Deposition of Silicon By Plasma Enhanced Cvd
等离子体增强 Cvd 低温外延沉积硅
  • 批准号:
    8024306
  • 财政年份:
    1981
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Continuing grant

相似海外基金

Low-temperature ceramic electrolysis cells for renewable energy technology
用于可再生能源技术的低温陶瓷电解槽
  • 批准号:
    LP220200591
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Linkage Projects
Modelling of high temperature superconductor magnetic systems to enable low carbon advancements in science and technology
高温超导磁系统建模,促进科学技术的低碳进步
  • 批准号:
    2739448
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Studentship
Development of low-temperature low-pressure large-area bonding technology by high heat-resistant and high-heat dissipation Ag solid porous materials
高耐热高散热Ag固体多孔材料低温低压大面积键合技术开发
  • 批准号:
    22K04243
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
High-Energy and Low-Temperature Pseudocapacitor Energy Storage Technology for Post-Pandemic Green Economic Recovery
高能低温赝电容储能技术助力疫后绿色经济复苏
  • 批准号:
    570414-2021
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
Development of a novel low temperature single step technology for direct liquefaction of methane-rich gas streams to oxygenated hydrocarbon fuels
开发一种新型低温单步技术,将富甲烷气流直接液化为含氧烃燃料
  • 批准号:
    RGPIN-2018-03955
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Development of a novel low temperature single step technology for direct liquefaction of methane-rich gas streams to oxygenated hydrocarbon fuels
开发一种新型低温单步技术,将富甲烷气流直接液化为含氧烃燃料
  • 批准号:
    RGPIN-2018-03955
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
High-Energy and Low-Temperature Pseudocapacitor Energy Storage Technology for Post-Pandemic Green Economic Recovery
高能低温赝电容储能技术助力疫后绿色经济复苏
  • 批准号:
    570414-2021
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
Improvement of high temperature lubricious properties of low frictional composite films by using reaction of boron and development of machining technology with high efficiency
利用硼反应改善低摩擦复合膜的高温润滑性能及高效加工技术的发展
  • 批准号:
    21K03809
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of High-Quality Thin Film Low-Temperature Formation Technology by Aerial Heating Dripping Method
空中加热滴下法高质量薄膜低温成膜技术的开发
  • 批准号:
    20K14781
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Development of a novel low temperature single step technology for direct liquefaction of methane-rich gas streams to oxygenated hydrocarbon fuels
开发一种新型低温单步技术,将富甲烷气流直接液化为含氧烃燃料
  • 批准号:
    RGPIN-2018-03955
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 22.09万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
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