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Building/Upgrading of a Plasma Excited Chemical Vapor Deposition System (Materials Research)

Building/Upgrading of a Plasma Excited Chemical Vapor Deposition System (Materials Research)
等离子体激发化学气相沉积系统的构建/升级（材料研究）
批准号：
8414642
负责人：
Klaus Bachmann
金额：
$11.62万
依托单位：
North Carolina State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1985
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1985-08-15 至 1987-01-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8414642&HistoricalAwards=false
关键词：
BuildingUpgradingPlasmaExcitedChemical

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U.S.-Europe Regional Workshop on Non-Stoichiometry in Semiconductor Heterostructures; Jena, Germany; October 10-14, 1994.
  • 批准号：
    9313878
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $1.03万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
U.S.-Japan Cooperative Research: Optoelectronic Circuit Design and Fabrication
  • 批准号：
    9315335
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $3.3万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
Semiconductor Heterostructures: Synthesis, Processing, Characterization and Non-linear Optical Properties
  • 批准号：
    9202210
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $30.74万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Epitaxial and Multiple Dielectric Thin Film Structures (Materials Research)
  • 批准号：
    8414580
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $27.73万
  • 财政年份：
    1985
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
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