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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Epitaxial and Multiple Dielectric Thin Film Structures (Materials Research)
外延和多重介电薄膜结构的等离子体增强化学气相沉积（材料研究）
基本信息
- 批准号：8414580
- 负责人：
- 金额：$ 27.73万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Continuing Grant
- 财政年份：1985
- 资助国家：美国
- 起止时间：1985-11-01 至 1989-04-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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会议论文数量（0）
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U.S.-Europe Regional Workshop on Non-Stoichiometry in Semiconductor Heterostructures; Jena, Germany; October 10-14, 1994.
美国-欧洲半导体异质结构非化学计量区域研讨会；
- 批准号：
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- 资助金额：
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美日合作研究：光电电路设计与制造
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半导体异质结构：合成、加工、表征和非线性光学特性
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$ 27.73万 - 项目类别：
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金属烷基化合物的纯化及其在半导体加工中的应用（材料研究）
- 批准号：
8210367 - 财政年份：1982
- 资助金额：
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Plasma-enhanced chemical vapor deposition tool
等离子体增强化学气相沉积工具
- 批准号：
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- 资助金额：
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Controlling Naturally-Derived Polymer Enzymatic Degradation: A Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Approach
控制天然聚合物酶降解：等离子体增强化学气相沉积方法
- 批准号：
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控制天然聚合物酶降解：等离子体增强化学气相沉积方法
- 批准号：
10201333 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
等离子体增强化学气相沉积
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18K04814 - 财政年份：2018
- 资助金额：
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Highly efficient chemical mechanical polishing method for SiC substrates using enhanced slurry containing bubbles of plasma gas
使用含等离子气体气泡的增强浆料对 SiC 衬底进行高效化学机械抛光方法
- 批准号：
17K06094 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
CAREER: Sustainable Chemical Synthesis by Plasma-Enhanced Solar Energy
职业：利用等离子体增强太阳能进行可持续化学合成
- 批准号：
1552037 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Standard Grant
Plasma-unterstützte Gasphasendepositionsanlage (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)
等离子体辅助气相沉积系统（等离子体增强化学气相沉积，PECVD）
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273513748 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Major Research Instrumentation
Development of High Power Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System for High Speed Large Area Synthesis of Diamond and Graphene
高速大面积合成金刚石和石墨烯的高功率微波等离子体增强化学气相沉积系统的开发
- 批准号：
477747-2015 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Engage Grants Program
MRI: Acquisition of a Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Tool with Inductively Coupled Plasma (ICP)
MRI：获取具有感应耦合等离子体 (ICP) 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工具
- 批准号：
1428392 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 27.73万 - 项目类别：
Standard Grant