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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Epitaxial and Multiple Dielectric Thin Film Structures (Materials Research)

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Epitaxial and Multiple Dielectric Thin Film Structures (Materials Research)
外延和多重介电薄膜结构的等离子体增强化学气相沉积（材料研究）
批准号：
8414580
负责人：
Klaus Bachmann
金额：
$27.73万
依托单位：
North Carolina State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
1985
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1985-11-01 至 1989-04-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8414580&HistoricalAwards=false
关键词：
PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition

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U.S.-Europe Regional Workshop on Non-Stoichiometry in Semiconductor Heterostructures; Jena, Germany; October 10-14, 1994.
  • 批准号：
    9313878
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $1.03万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
U.S.-Japan Cooperative Research: Optoelectronic Circuit Design and Fabrication
  • 批准号：
    9315335
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $3.3万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
Semiconductor Heterostructures: Synthesis, Processing, Characterization and Non-linear Optical Properties
  • 批准号：
    9202210
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $30.74万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
Building/Upgrading of a Plasma Excited Chemical Vapor Deposition System (Materials Research)
  • 批准号：
    8414642
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $11.62万
  • 财政年份：
    1985
  • 负责人：
    Klaus Bachmann
  • 依托单位：
    North Carolina State University
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