工程研究设备补助金：低压化学气相沉积（LPCVD）研究系统-猫眼课题宝

工程研究设备补助金：低压化学气相沉积（LPCVD）研究系统

批准号：

8506619

负责人：

Jerry Fossum

金额：

$6.99万

依托单位：

University of Florida

依托单位国家：

美国

项目类别：

Standard Grant

财政年份：

1985

资助国家：

美国

项目状态：

已结题

起止时间：

1985-09-01 至 1987-02-28

来源：

https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8506619&HistoricalAwards=false

关键词：

Engineering Research Equipment Grant Low

项目摘要

项目成果

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中文摘要

翻译

一种Thermco低压化学气相沉积（LPCVD）系统，沉积高质量的多晶硅薄膜，将购买低温二氧化硅。该系统由于应用程序的数量迅速增加，薄膜LPCVD多晶硅硅集成电路技术，并且由于对LPCVD多晶硅应用的重视，目前和预期的研究。

英文摘要

A Thermco low-pressure chemical-vapor-deposition (LPCVD) system capable of depositing thin films of good-quality polysilicon and low-temperature silicon-dioxide will be purchased. This system is desirable because of the rapidly increasing number of applications of thin-film LPCVD polysilicon in silicon integrated circuit technology, and because of the emphasis on LPCVD polysilicon applications in current and anticipated research.

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