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Engineering Research Equipment Grant: A Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition (LPCVD) Research System

Engineering Research Equipment Grant: A Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition (LPCVD) Research System
工程研究设备补助金：低压化学气相沉积（LPCVD）研究系统
批准号：
8506619
负责人：
Jerry Fossum
金额：
$6.99万
依托单位：
University of Florida
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1985
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1985-09-01 至 1987-02-28
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8506619&HistoricalAwards=false
关键词：
EngineeringResearchEquipmentGrantLow

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A Thermco low-pressure chemical-vapor-deposition (LPCVD) system capable of depositing thin films of good-quality polysilicon and low-temperature silicon-dioxide will be purchased. This system is desirable because of the rapidly increasing number of applications of thin-film LPCVD polysilicon in silicon integrated circuit technology, and because of the emphasis on LPCVD polysilicon applications in current and anticipated research.
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会议论文
Modeling, Design, and CMOS Performance Projections of Nanoscale Double-Gate FinFETs
  • 批准号：
    0424198
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $0.0万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    Jerry Fossum
  • 依托单位：
    University of Florida
IUC: Physical Characterization of High-Voltage Devices and Integrated Circuits Fabricated in Dielectrically Isolated Silicon Tubs
  • 批准号：
    8419427
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $21.37万
  • 财政年份：
    1985
  • 负责人：
    Jerry Fossum
  • 依托单位：
    University of Florida
国内基金
海外基金
Research on Quantum Field Theory without a Lagrangian Description
  • 批准号：
    24ZR1403900
  • 项目类别：
    省市级项目
  • 资助金额：
    --
  • 批准年份：
    2024
  • 负责人：
    SATOSHI NAWATA
  • 依托单位：
    复旦大学
Cell Research
Cell Research
Cell Research (细胞研究)