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Engineering Research Equipment Grant: RF Sputtering System for Thin Film Deposition
工程研究设备补助金：用于薄膜沉积的射频溅射系统
基本信息
- 批准号：8806875
- 负责人：
- 金额：$ 4.82万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1988
- 资助国家：美国
- 起止时间：1988-07-01 至 1989-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
This is a research equipment grant for the purchase of an RF sputtering system. This equipment will be used for research on surface acoustic wave (SAW) microsensors for gas detection, including hydrogen sulfide. Other projects include the use of SAW sensors for polyimide films, novel low loss SAW filters and SAW waveguides on anisotropic substrates. These sensors use both metallic and dielectric films.
这是一项用于购买射频溅射系统的研究设备赠款。该设备将用于研究用于包括硫化氢在内的气体检测的声表面波(SAW)微型传感器。其他项目包括在聚酰亚胺薄膜中使用声表面波传感器，在各向异性衬底上使用新型低损耗声表面波滤波器和声表面波波导。这些传感器同时使用金属膜和电介质膜。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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