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Theoretrical and Experimental Studies of Laser Chemical Vapor Deposition for Selected Area Deposition of Pure Titanium
激光化学气相沉积选区沉积纯钛的理论与实验研究
基本信息
- 批准号：8815417
- 负责人：
- 金额：$ 29.8万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Continuing Grant
- 财政年份：1989
- 资助国家：美国
- 起止时间：1989-01-01 至 1992-06-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Laser Chemical Vapor Deposition (LCVD) techniques can be used to produce thin layers of materials with precise spatial control. Although this has been clearly demonstrated, little has been done to understand the fundamentals of the LCVD process. Experimental studies of the deposition mechanism for pure titanium will be conducted using optical, thermal and chemical properties. The results will be used to develop generic mathematical models for the deposition process.
激光化学气相沉积（LCVD）技术可用于 通过精确的空间控制生产薄层材料。 虽然这一点已得到明确证明，但几乎没有采取任何行动 了解LCVD工艺的基本原理。 实验 纯钛沉积机理的研究将是 利用光学、热学和化学性质进行。 的 结果将用于开发通用数学模型， 沉积过程。
项目成果
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专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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