ROW: (Research Initiation) Characterization and Optimization of Ultrathin Silicon Oxynitrides Formed by Ion Implantation

ROW:(研究启动)离子注入形成的超薄氮氧化硅的表征和优化

基本信息

  • 批准号:
    9196096
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.92万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1990-11-30 至 1992-08-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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