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Research Equipment Grant: Reactive Ion Etching for Device Fabrication and Materials Studies

Research Equipment Grant: Reactive Ion Etching for Device Fabrication and Materials Studies
研究设备补助金：用于设备制造和材料研究的反应离子蚀刻
批准号：
9500033
负责人：
Gregory Snider
金额：
$7.85万
依托单位：
University of Notre Dame
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1995
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1995-04-01 至 1996-03-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=9500033&HistoricalAwards=false
关键词：
ResearchEquipmentGrantReactiveIon

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
9500033 Snider将购买反应离子刻蚀系统，以提供多功能的干法刻蚀能力，推动涉及几个部门的跨学科研究。***
英文摘要
9500033 Snider A reactive ion etch system will be purchased to provide a versatile dry etch capability spurring interdisciplinary research involving several department. ***
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会议论文
Adiabatic Systems for Low Power Computation
  • 批准号：
    1914061
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $45.0万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Gregory Snider
  • 依托单位：
    University of Notre Dame
Engineering deterministic electron correlations and topological states in site-controlled III-V quantum droplets
  • 批准号：
    1904610
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $44.45万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Gregory Snider
  • 依托单位：
    University of Notre Dame
Scanned Probe Microscopy using Single-Electron Device Arrays
  • 批准号：
    1509087
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $38.0万
  • 财政年份：
    2015
  • 负责人：
    Gregory Snider
  • 依托单位：
    University of Notre Dame
Ultra-Sensitive Electrometers for Nano-Fluidics
  • 批准号：
    0901659
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $32.17万
  • 财政年份：
    2009
  • 负责人：
    Gregory Snider
  • 依托单位：
    University of Notre Dame
海外基金