Mikrostrukturdefekte in elektrochemisch abgeschiedenen nanoskaligen Multilagenschichten und ihr Einfluss auf magnetische Eigenschaften

电化学沉积纳米多层薄膜的微观结构缺陷及其对磁性能的影响

• 批准号: 103462683
• 负责人: Professor Dr. David Rafaja
• 金额: --
• 依托单位: Research Institute for
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2008-12-31 至 2010-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/103462683?language=en
• 关键词: Mikrostrukturdefekte; elektrochemisch; abgeschiedenen; nanoskaligen; Multilagenschichten

Im Rahmen des Projektes „Mikrostrukturdefekte in elektrochemisch abgeschiedenen nanoskaligen Multilagenschichten und ihr Einfluss auf magnetische Eigenschaften“, welches in Kooperation mit dem Forschungsinstitut für Festkörperphysik und Optik der Ungarischen Akademie der Wissenschaften in Budapest durchgeführt wird, wurde bis jetzt die starke Grenzflächenrauhigkeit als der wichtigste Grund für den derzeit noch unzureichenden GMR-Effekt ermittelt. Die große Grenzflächenrauhigkeit stammt sowohl von der mechanischen Wechselwirkung zwischen den einzelnen Schichten an deren Grenzflächen als auch von der Segregation des mit dem unedleren Metall mit abgeschiedenen edleren Elements in Systemen mit breiter Mischungslücke. Die Grenzflächenrauhigkeit im System Co/Cu soll mittels Zusatz von Additiven reduziert werden. Additive senken zwar die Grenzflächenrauhigkeit, verschlechtern aber gleichzeitig die magnetischen Eigenschaften durch Bildung von Punktdefekten. In der zweiten Förderperiode sollen die Möglichkeiten der Ausheilung dieser Defekte untersucht werden. Im Fokus der Mikrostrukturcharakterisierung mittels Röntgenstreuung, TEM, AFM und spektroskopischer Methoden (EELS, XPS) stehen die Auswirkung der Additive auf die Morphologie und Defektstruktur der Co/Cu Multilagenschichten und der Effekt einer Wärmebehandlung auf ihre Mikrostruktur.

在与位于布达佩斯的Ungarischen Akademie的Für Körperphysik und Optik研究所合作的项目”微结构纳米结构的电化学多晶化及其对磁本征值的影响“中，我们将看到一个非常明显的Grenzflächenrauhigkeit，它是一个非常有效的GMR-Effekt。大规模的重力场产生于一种特殊的重力场，这种重力场也产生于一种特殊的金属元素在系统中的分离。Co/Cu体系中的冷却剂可减少添加剂的韦尔登。添加剂可以增强磁场强度，但可以通过对磁场的培养来增强磁场的特性。在第二个Förderperiode sollen die Möglichkeiten der Ausheilung dieser Defekte untersucht韦尔登.本文主要研究微结构特性的X射线衍射、透射电镜、原子力显微镜和分光光度法（EELS、XPS）对Co/Cu多层膜的形貌和结构的影响以及对微结构的作用。