Bildungsmechanismen und Eigenschaften elektrochemisch erzeugter Metallfilme auf Halbleiterunterlagen

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Während ausreichende Kenntnisse über die elektrochemische Metallphasenbildung auf arteigenen und artfremden Metallsubstraten bestehen, sind die grundlegenden Phasenbildungsprozesse der elektrochemischen Metallabscheidung auf Halbleiterunterlagen weitgehend unbekannt. Im vorliegenden Forschungsvorhaben sollen die atomaren Aspekte der elektrochemischen Metallphasenbildung auf Halbleitersubstraten in den Modellsystemen n- und p-Si(hkl)/Mez+ (mit (hkl) = (111), (100) und Me = Pb, Cd, Sn, Bi, Tl) untersucht werden. Dabei sollen in situ-Rastersondentechniken nicht nur analytisch, sondern auch präparativ zur lokalen Metallabscheidung eingesetzt werden. Die Bildungsmechanismen und Eigenschaften der elektrochemisch erzeugten Metallphasen und Metallcluster sollen durch thermodynamische, kinetische und strukturelle Untersuchungen auf atomarer Ebene möglichst quantitativ aufgeklärt werden. Die zu erwartenden wissenschaftlichen Ergebnisse können für die Entwicklung neuer Methoden zur Metallisierung und lokalen Nanostrukturierung von Halbleiteroberflächen verwendet werden. Das Vorhaben schließt sich eng an das in Karlsruhe begonnene Projekt Lo 184/29-2 an.