Dünnschicht-Diffraktometer

衍射仪dient zur Aufklärung der strukturd<e:1> nner epitaktischer Schichten。In Fachbereich Materialwissenschaft, In den letzten Jahren zwei hochneschichtsystem, zur gepulsten，激光沉积（PLD）和裂解（MBE）， and denen täglich mehere Schichten hergestellt werden。die macht die Anschaffung eines modernen and auf dem neesten Stand der Technik befindlichen dnschicht - diffraction - tommeters abdingbar。Anforderungen和das衍射仪与hoher Röntgenfluss， hohe Auflösung zur bestimung von Gitterparametern和Auflösung von Überstrukturreflexen in complex plexen Multischichtsystemen， die Möglichkeit zur Röntgenreflektometrie und zum schnellen Abtasten des reziproken Raums, sowie entsprechende Auswertungsprogramme。

Das beantragte Dünnschicht-Diffraktometer dient zur Aufklärung der Struktur dünner epitaktischer Schichten. Im Fachbereich Materialwissenschaft sind In den letzten Jahren zwei hochmoderne Dünnschichtsysteme zur gepulsten Laserdeposition (PLD) und reaktiver Molekularstrahlepitaxie (MBE) aufgebaut worden, an denen täglich mehrere Schichten hergestellt werden. Dies macht die Anschaffung eines modernen und auf dem neuesten Stand der Technik befindlichen Dünnschicht-Diffraktometers unabdingbar. Anforderungen an das Diffraktometer sind hoher Röntgenfluss, hohe Auflösung zur Bestimmung von Gitterparametern und Auflösung von Überstrukturreflexen in komplexen Multischichtsystemen, die Möglichkeit zur Röntgenreflektometrie und zum schnellen Abtasten des reziproken Raums, sowie entsprechende Auswertungsprogramme.