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Fundamental Processes in Plasmas
等离子体的基本过程
基本信息
- 批准号：9876999
- 负责人：
- 金额：$ 277.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Continuing Grant
- 财政年份：1999
- 资助国家：美国
- 起止时间：1999-05-15 至 2004-07-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
9876999O'NeilThe research focuses on fundamental processes in plasmas for which precise experimental tests of theory can be made. Experiments are performed on non-neutral plasmas using three, existing electron traps. The simplicity of these systems facilitates precise comparisons between theory/simulation and experiment. This enables a depth of understanding rarely possible in neutral plasmas in complex geometries.
9876999奥尼尔研究的重点是等离子体的基本过程，可以进行精确的实验理论测试。 实验进行非中性等离子体使用三个，现有的电子陷阱。 这些系统的简单性有利于理论/模拟和实验之间的精确比较。 这使得在复杂几何形状的中性等离子体中很少有可能深入理解。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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