课题基金 / 基金详情

Fundamental Processes in Plasmas

Fundamental Processes in Plasmas
等离子体的基本过程
批准号:
9876999
负责人:
Thomas O'Neil
金额:
$277.58万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Continuing Grant
财政年份:
1999
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1999-05-15 至 2004-07-31

项目摘要

项目成果

Thomas O'Neil的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
9876999O'NeilThe research focuses on fundamental processes in plasmas for which precise experimental tests of theory can be made. Experiments are performed on non-neutral plasmas using three, existing electron traps. The simplicity of these systems facilitates precise comparisons between theory/simulation and experiment. This enables a depth of understanding rarely possible in neutral plasmas in complex geometries.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Fundamental Processes in Plasmas
  • 批准号:
    0903877
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $200.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
FUNDAMENTAL PROCESSES IN PLASMAS
  • 批准号:
    0354979
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $300.0万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
Fundamental Processes in Plasmas
  • 批准号:
    9421318
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $222.33万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
Submesoscale Processes Associated with Oceanic Eddies
  • 批准号:
    --
  • 项目类别:
    --
  • 资助金额:
    160万元
  • 批准年份:
    2022
  • 负责人:
    董昌明
  • 依托单位: