A Non-Thermal Annealing Process Applied to Neutron Transmutation Doped Silicon
A Non-Thermal Annealing Process Applied to Neutron Transmutation Doped Silicon
中子嬗变掺杂硅的非热退火工艺
批准号：
0049057
负责人：
David Donnelly
金额：
$12.56万
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
2000
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
2000-08-15 至 2000-10-31
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会议论文
Athermal Annealing of Ion-Implanted Silicon
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批准号：0114846
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项目类别：Standard Grant
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资助金额：$14.38万
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财政年份：2001
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负责人：David Donnelly
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依托单位：
A Non-Thermal Annealing Process Applied to Neutron Transmutation Doped Silicon
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批准号：9732092
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项目类别：Standard Grant
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资助金额：$12.56万
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财政年份：1998
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负责人：David Donnelly
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依托单位：
国内基金
海外基金
Thermal-lag自由活塞斯特林发动机启动与可持续运行机理研究
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批准号：51806227
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项目类别：青年科学基金项目
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资助金额：24.0万元
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批准年份：2018
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负责人：牟健
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依托单位：
