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Fluorine-Silicon Interactions and Competitive Etching Pathways

Fluorine-Silicon Interactions and Competitive Etching Pathways
氟硅相互作用和竞争蚀刻途径
批准号：
0096306
负责人：
John Weaver
金额：
$34.0万
依托单位：
University of Illinois at Urbana-Champaign
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
2000
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
2000-05-01 至 2003-02-28
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=0096306&HistoricalAwards=false
关键词：
FluorineSiliconInteractionsCompetitiveEtching

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Fluorine-Silicon Interactions and Competitive Etching Pathways
  • 批准号：
    9803177
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $34.0万
  • 财政年份：
    1998
  • 负责人：
    John Weaver
  • 依托单位：
    University of Minnesota-Twin Cities
国内基金
海外基金
Silicon-Tethered 分子内 Corey-Chaykovsky 反应和 Tandem Heterocyclopropylolefin 环化反应研究
  • 批准号：
    20802044
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    18.0万元
  • 批准年份：
    2008
  • 负责人：
    宋振雷
  • 依托单位：
    四川大学