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GOALI: Rational Design of Advanced Photoresist Materials for 193 nm and 157 nm Lithography

目标：193 nm 和 157 nm 光刻先进光刻胶材料的合理设计

基本信息

批准号：
0300467
负责人：
Clifford Henderson
金额：
$ 29.58万
依托单位：
Georgia Tech Research Corporation
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
2003
资助国家：
美国
起止时间：
2003-08-01 至 2007-07-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=0300467&HistoricalAwards=false
关键词：
GOALI Rational Design Advanced Photoresist

项目摘要

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项目成果

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