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GOALI: Rational Design of Advanced Photoresist Materials for 193 nm and 157 nm Lithography

GOALI: Rational Design of Advanced Photoresist Materials for 193 nm and 157 nm Lithography
目标：193 nm 和 157 nm 光刻先进光刻胶材料的合理设计
批准号：
0300467
负责人：
Clifford Henderson
金额：
$29.58万
依托单位：
Georgia Tech Research Corporation
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
2003
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
2003-08-01 至 2007-07-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=0300467&HistoricalAwards=false
关键词：
GOALIRationalDesignAdvancedPhotoresist

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Conference: 63rd International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technologies and Nanofabrication (EIPBN); Minneapolis, Minnesota; May 28-31, 2019
  • 批准号：
    1935293
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $1.8万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Clifford Henderson
  • 依托单位：
    University of South Florida
SusChEM: Collaborative Research: Efficient biological activation and conversion of short-chain hydrocarbons
  • 批准号：
    1938893
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $15.79万
  • 财政年份：
    2018
  • 负责人：
    Clifford Henderson
  • 依托单位：
    University of South Florida
EAGER: Templated Manufacturing of Graphene
  • 批准号：
    1251639
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $15.0万
  • 财政年份：
    2012
  • 负责人：
    Clifford Henderson
  • 依托单位：
    Georgia Tech Research Corporation
Understanding and Exploiting the Transport Behavior of Polymers in Confined Geometries
  • 批准号：
    0700760
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $29.0万
  • 财政年份：
    2007
  • 负责人：
    Clifford Henderson
  • 依托单位：
    Georgia Tech Research Corporation
国内基金
海外基金
基于Rational Krylov法和小波域稀疏约束的时间域海洋电磁三维正反演研究
  • 批准号：
    41804098
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    25.0万元
  • 批准年份：
    2018
  • 负责人：
    张博
  • 依托单位：
    吉林大学
基于Rational-Tensor(RTCam)摄像机模型的序列图像间几何框架研究
  • 批准号：
    61072105
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    29.0万元
  • 批准年份：
    2010
  • 负责人：
    沈沛意
  • 依托单位：
    西安电子科技大学