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Hochleistungs-fs-Lasersystem für die Erzeugung von XUV-Strahlung

用于产生 XUV 辐射的高性能飞秒激光系统

基本信息

批准号：
192191202
负责人：
金额：
--
依托单位：
Universität Leipzig
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2011
资助国家：
德国
起止时间：
2010-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/192191202?language=en
关键词：
Hochleistungs fs Lasersystem die Erzeugung

项目摘要

Das gepulste Hochleistungslasersystem für die Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung (sog. hoher harmonischer Frequenzen der Fundamentalwellenlänge des Lasersystems bei 800 nm) soll der AG und anderen Nutzern die Möglichkeit bieten, elektronische Spektroskopie auf ultrakurzer Zeitskala an kondensierter Materie im Bereich von Grenzflächen (Interfaces) durchzuführen. Dazu soll eine hochspezialisierte Laborquelle für XUV- und weiche Röntgenstrahlung mit mehreren Messplätzen (insbesondere für die Photoelektronenspektros-kopie) aus Einzelkomponenten aufgebaut werden. Das beantragte Hochleistungs-Lasersystem stellt die zentrale Komponente dieser Apparatur dar. Die lasergetriebene und durchstimmbare Laborquelle soll den Wellenlängenbereich zwischen 30 nm (EUV) und 2 nm (XUV und weicher Röntgenbereich) abdecken und insbesondere die Spektroskopie (ESCA, NEXAFS) in sog. Wasserfenster an chemi-schen und in biologischen Proben ermöglichen. Es sollen damit schnelle Prozesse im Piko- und unte-ren Femtosekundenbereich (bis in den Attosekundenbereich mit entsprechender Zusatzausstattung) mit hoher Zeit- und Ortsauflösung verfolgt werden. Der Messplatz mit gepulster XUV- (laserähnlicher) Strahlung wird dabei einzigartige spektroskopische (und Beugungs-) Experimente ermöglichen, die sonst nur an Großforschungsanlagen wie BESSY und DESY (FLASH) möglich sind.

Das gepulste Hoesistungslasersystem für die Erzeugung von extreme ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung（sog. hoher harmonischer Frequenzen der Fundamentalwellenlänge des Lasersystems bei 800 nm）soll der AG und anderen Nutzern die Möglichkeit bieten，elektronische Spektroskopie auf ultrakurzer Zeitskala an kondensierter Materie im Bereich von Grenzflächen（Interfaces）durchzuführen. Dazu soll eine hochspezialisierte quelle für XUV- und weiche Röntgenstrahlung mit mehreren Messplätzen（insbesondere für die Photoelektronenspektros-kopie）aus Einzelkomponenten aufgebaut韦尔登.这台激光治疗仪是该仪器的核心部件。该激光器的能量和强度可分别为30 nm（EUV）和2 nm（XUV和较强的Röntgenbereich），可用于光谱分析（ESCA，NEXAFS）。在化学和生物学上进行测试。它必须在Piko和Unte-ren Femtosekundenbereich（bis in den Attosekundenbereich mit entsprechender Zusatzausstattung）中进行处理，并具有更高的时间和韦尔登。带有XUV-（激光器）辐射的Mesplatz将进行一次光谱（和Beugungs-）实验，它只是一个BESSY和DESY（FLASH）等大型研究项目。