Hochleistungs-fs-Lasersystem für die Erzeugung von XUV-Strahlung

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Das gepulste Hochleistungslasersystem für die Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung (sog. hoher harmonischer Frequenzen der Fundamentalwellenlänge des Lasersystems bei 800 nm) soll der AG und anderen Nutzern die Möglichkeit bieten, elektronische Spektroskopie auf ultrakurzer Zeitskala an kondensierter Materie im Bereich von Grenzflächen (Interfaces) durchzuführen. Dazu soll eine hochspezialisierte Laborquelle für XUV- und weiche Röntgenstrahlung mit mehreren Messplätzen (insbesondere für die Photoelektronenspektros-kopie) aus Einzelkomponenten aufgebaut werden. Das beantragte Hochleistungs-Lasersystem stellt die zentrale Komponente dieser Apparatur dar. Die lasergetriebene und durchstimmbare Laborquelle soll den Wellenlängenbereich zwischen 30 nm (EUV) und 2 nm (XUV und weicher Röntgenbereich) abdecken und insbesondere die Spektroskopie (ESCA, NEXAFS) in sog. Wasserfenster an chemi-schen und in biologischen Proben ermöglichen. Es sollen damit schnelle Prozesse im Piko- und unte-ren Femtosekundenbereich (bis in den Attosekundenbereich mit entsprechender Zusatzausstattung) mit hoher Zeit- und Ortsauflösung verfolgt werden. Der Messplatz mit gepulster XUV- (laserähnlicher) Strahlung wird dabei einzigartige spektroskopische (und Beugungs-) Experimente ermöglichen, die sonst nur an Großforschungsanlagen wie BESSY und DESY (FLASH) möglich sind.