Nanoimprint Anlage mit SCIL Tooling
具有 SCIL 工具的纳米压印系统
基本信息
- 批准号:198730657
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Major Research Instrumentation
- 财政年份:2011
- 资助国家:德国
- 起止时间:2010-12-31 至 无数据
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine enorme Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente. Besonders vielversprechend ist die SCIL-Technologie (Substrate Conformal Imprint Lithography), die eine genaue Abformung von Strukturen im nm-Bereich auf Flächen von bis zu 400cm2 in nur einem Schritt erlaubt. Hierdurch sollen neue Bauelemente dem deutschen Massenmarkt zugänglich gemacht werden. Das INA entwickelt derzeit einzigartige Templates für die 3D Nanoimprint Technologie, welche Strukturen mit Details im nm-Bereich in allen drei Raumrichtungen ermöglicht, wodurch insbesondere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wird. Diese Templates müssen an die besonderen Anforderungen der SCIL-Technologie angepasst werden. Daher ist es zwingend erforderlich, dass die Abformung am Institut geschehen kann, um - ohne Zeitverlust durch Transport – die relevanten Parameter erforschen zu können, wie z.B. Materialauswahl, Templatedesign, u.a. Die SCIL-Technologie ist hierbei von besonderer Bedeutung, da die Vorteile von weichen Templates (z.B. Oberflächenanpassung) und harten Templates (z.B. laterale Strukturtreue) genutzt werden.
Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine aprime Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente.基本上,SCIL技术(衬底共形压印光刻)是一种在400 cm 2的平面上仅用一个小平面制作的结构。德国大众市场上的新建筑已经被韦尔登占领。INA开发了一种用于3D纳米压印技术的模板,该模板的结构具有三个纳米级的细节,可以在艾伦的纳米压印技术中实现。这些模板必须是SCIL-Technologie angepasst韦尔登的最佳模板。Daher is zwingend erforderlich,dass die Abformung am Institut geschehen kann,um - ohne Zeitverlust durch Transport - die relevanten Parameter erforschen zönnen,wie z.B. Materialauswahl,Templatedesign,u.a. SCIL技术是一种基于模板(z.B. Oberflächenanpassung)und harten Templates(z.B.外侧结构)genutzt韦尔登。
项目成果
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专著数量(0)
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