Nanoimprint Anlage mit SCIL Tooling

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Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine enorme Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente. Besonders vielversprechend ist die SCIL-Technologie (Substrate Conformal Imprint Lithography), die eine genaue Abformung von Strukturen im nm-Bereich auf Flächen von bis zu 400cm2 in nur einem Schritt erlaubt. Hierdurch sollen neue Bauelemente dem deutschen Massenmarkt zugänglich gemacht werden. Das INA entwickelt derzeit einzigartige Templates für die 3D Nanoimprint Technologie, welche Strukturen mit Details im nm-Bereich in allen drei Raumrichtungen ermöglicht, wodurch insbesondere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wird. Diese Templates müssen an die besonderen Anforderungen der SCIL-Technologie angepasst werden. Daher ist es zwingend erforderlich, dass die Abformung am Institut geschehen kann, um - ohne Zeitverlust durch Transport – die relevanten Parameter erforschen zu können, wie z.B. Materialauswahl, Templatedesign, u.a. Die SCIL-Technologie ist hierbei von besonderer Bedeutung, da die Vorteile von weichen Templates (z.B. Oberflächenanpassung) und harten Templates (z.B. laterale Strukturtreue) genutzt werden.