Nanoimprint Anlage mit SCIL Tooling

从功能上看，这是一种新的技术。在Nur einem Schritt erlabt中，Besonders Velversprechend is die Small-Technologie(衬底保形压印光刻)，Die eine Genaue Abformung von Strukturen im nm-Bereich auf FläChen von bis zu 400 cm2。您的位置：我也知道>地区>德国。Das INA entwickelt derzeit einzigartige Templates für die 3D Nanoimprint Technologie，well che Strukturen MIT Detail im nm-Bereich in Allen Drei Raumrichtunermöglicht，wodurch insbeondere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wird.设计了一种新的模具模板和模具结构。在相关的参数中，我们看到了材料、模板设计、UA模具技术专家和德国魏晨公司的模板。

Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine enorme Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente. Besonders vielversprechend ist die SCIL-Technologie (Substrate Conformal Imprint Lithography), die eine genaue Abformung von Strukturen im nm-Bereich auf Flächen von bis zu 400cm2 in nur einem Schritt erlaubt. Hierdurch sollen neue Bauelemente dem deutschen Massenmarkt zugänglich gemacht werden. Das INA entwickelt derzeit einzigartige Templates für die 3D Nanoimprint Technologie, welche Strukturen mit Details im nm-Bereich in allen drei Raumrichtungen ermöglicht, wodurch insbesondere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wird. Diese Templates müssen an die besonderen Anforderungen der SCIL-Technologie angepasst werden. Daher ist es zwingend erforderlich, dass die Abformung am Institut geschehen kann, um - ohne Zeitverlust durch Transport – die relevanten Parameter erforschen zu können, wie z.B. Materialauswahl, Templatedesign, u.a. Die SCIL-Technologie ist hierbei von besonderer Bedeutung, da die Vorteile von weichen Templates (z.B. Oberflächenanpassung) und harten Templates (z.B. laterale Strukturtreue) genutzt werden.