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Laserdepositionsanlage für dünne Schichten

Laserdepositionsanlage für dünne Schichten
薄层激光沉积系统
批准号:
222708598
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2012
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2011-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
“在德国施密顿公司和德国公司的合作下,我们将继续努力实现这一目标。”Dazu gehören in der DatenSpeicherung,Sensorik,Photovoltaik and Energie-Speicherung,Ferroelektrika and MultiIron ika MIT AnwendungSpotential in der DatenSpeicherung,Sensorik,Photovoltaik and Energie-Speicherung。他说:“这是一件很有弹性的事情。”在制备激光沉积的过程中,我们采用了一种新的方法-。在Hinblick auf纳米结构材料的基础上,进行激光沉积和加工纳米结构材料的实验。
英文摘要
"Die Forschung der Arbeitsgruppe betrifft die experimentelle Erfassung und Beschreibung grundlegender elektronischer Phänomene in dünnen Schichten komplexer, elektronisch korrelierter Oxide. Dazu gehören insbesondere leitfähige oder magnetische Oxide, Ferroelektrika und Multiferroika mit Anwendungspotential in der Datenspeicherung, Sensorik, Photovoltaik und Energie-speicherung. Ein Schwerpunkt liegt bei elastisch kontrollierbaren Eigenschaften durch den Einsatz reversibel dehnbarer Schichtarchitekturen. Der methodische Zugang besteht in der Präparation epi-taktischer Schichten durch die gepulste Laserdeposition, ihrer Strukturbestimmung mit modernen Röntgenmethoden unter in-situ Anwendung elektrischer, magnetischer und mechanischer Spannungs-Felder sowie der Messung der (ferro)elektrischen und magnetischen Eigenschaften der Schichten. Die Laserdepositionsanlage erweitert die experimentelle Basis für die Präparation dünner Schichten nanostrukturierter Materialien an der Fakultät wesentlich und trägt damit zur Profilbildung der Uni-versität in Hinblick auf nanostrukturierte Materialien bei."
期刊论文(10)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1098/rsta.2012.0441
发表时间: 2014-02
期刊: Philosophical Transactions of the Royal Society A: Mathematical, Physical and Engineering Sciences
影响因子: --
作者: [A. Herklotz;M. Biegalski;H. Christen;Er‐Jia Guo;K. Nenkov;A. D. Rata;L. Schultz;K. Dörr]
通讯作者: A. Herklotz;M. Biegalski;H. Christen;Er‐Jia Guo;K. Nenkov;A. D. Rata;L. Schultz;K. Dörr
Stoichiometry control of complex oxides by sequential pulsed-laser deposition from binary-oxide targets
通过二元氧化物靶材的连续脉冲激光沉积对复杂氧化物进行化学计量控制
DOI: 10.1063/1.4916948
发表时间: 2015
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [A. Herklotz]
通讯作者: A. Herklotz
DOI: 10.1063/1.4913421
发表时间: 2015-02
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [E. Guo;Robert Roth;Sujit Das;A. Herklotz;K. Dörr]
通讯作者: E. Guo;Robert Roth;Sujit Das;A. Herklotz;K. Dörr
DOI: 10.1063/1.4974450
发表时间: 2017-01
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [H. Lee;E. Guo;Jeong Hun Kwak;Seung Hyun Hwang;K. Dörr;Jun Hee Lee;J. Jo]
通讯作者: H. Lee;E. Guo;Jeong Hun Kwak;Seung Hyun Hwang;K. Dörr;Jun Hee Lee;J. Jo
共 10 条
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