Dünne Schichten aus schnellen Clustern

快速簇的薄层

基本信息

  • 批准号:
    5289924
  • 负责人:
  • 金额:
    --
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    德国
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 财政年份:
    2001
  • 资助国家:
    德国
  • 起止时间:
    2000-12-31 至 2003-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Dünne Schichten können mit geringem Materialaufwand die mechanischen, elektrischen, chemischen, etc. Eigenschaften von Materialien völlig verändern. Die Idee des in der Arbeitsgruppe des Antragstellers entwickelten Verfahrens unterscheidet sich in einem wesentlichen Punkt von allen anderen Beschichtungsverfahren: die Atome treffen nicht einzeln auf die zu beschichtende Oberfläche, sondern werden vorher zu einem sogenannten Cluster aus einigen tausend Atomen zusammengelagert. Die Cluster werden elektrisch beschleunigt und mit einer Geschwindigkeit von einigen Kilometern pro Sekunde auf die Oberfläche geschossen. Durch diesen massiven Aufprall steigen kurzzeitig Druck und Temperatur an der Aufschlagstelle stark an, was zu gut haftenden und dichten Schichten führt, selbst dann, wenn das Substrat Raumtemperatur hat und nicht besonders gereinigt wurde. Folgende Untersuchungen sind geplant: 1) Entwicklung einer intensiveren Clusterquelle, 2) Startschichten für die galvanisch oder außen-stromlose Metallabscheidung von sehr kleinen Strukturen, 3) Entwicklung von bio-kompatiblen TiN Schichten, die keine kleinen Löcher (pin-holes) haben.
Dünne Schichten können mit geringem Materialaufwand die mechanischen,elektrischen,chemischen,etc. Eigenschaften von Materialien völlig verändern.在工作组中,工作人员的想法是在一个由所有人和其他人组成的工作组中进行工作的:原子的数量并不是在一个由原子组成的工作组中进行工作的,因此韦尔登可以在一个由原子组成的工作组中进行工作。Die Cluster韦尔登elektrisch beschunigt und mit einer Geschwindigkeit von einigen Kilometern pro Sekunde auf die Oberfläche geschossen.当衬底的室温和温度没有变化时,这种干燥和温度的提高是很好的,也是很容易的。研究结果如下:1)强化电镀工艺,2)电镀或电镀金属的小结构的启动,3)生物相容性TiN Schichten的开发,没有小的针孔。

项目成果

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专著数量(0)
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