SBIR Phase I: Disruptive Semiconductor Software Tool for Recipe Optimization for Deposition and Etching Processes

SBIR 第一阶段:用于沉积和蚀刻工艺配方优化的颠覆性半导体软件工具

基本信息

  • 批准号:
    1819610
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 22.48万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    2018-06-15 至 2019-10-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The broader impact/commercial potential of this Small Business Innovation Research (SBIR) Phase I project is that it will enable technologies on the cutting-edge like Spin Torque Transfer-Random Access Memory (STT-RAM) and high efficiency solar cells to permeate the marketplace. Currently, semiconductor applications like these technologies face significant nanomanufacturing challenges. In fact, fabricating semiconductor devices is so challenging that 55% of new semiconductor products fail to meet their original launch date and over 40% of development projects exceed the planned budgets. With its proposed virtual recipe development environment, this SBIR project will allow semiconductor chip and equipment manufacturers to save up to 66% of process development costs, gain market share through three times faster development cycles, and enable the process development of next-generation of high performance, energy efficient electronic devices. The proposed project will use statistical self-learning inference algorithms, sophisticated process models, and the vast amount of available fab data to make high accuracy process predictions and enable high volume manufacturing of innovative nanotechnologies. Three key components will be developed: (1) A recipe analytics engine capable of performing process predictions and process design for multiple process objectives, (2) A topography simulator for profile prediction of nanofeatures, and (3) A commercial platform interface for real-time process development decision making. The components will be devised to accurately capture large process systems and multiple process objectives, reduce computational expense, and facilitate commercial adoption. These innovations will be accomplished by: (a) Using parallel computing to reduce computational expense, (b) Developing reduced-order plasma and surface kinetic models, (c) Employing adaptive algorithms to accelerate recipe optimization, and (d) Using uncertainty analysis techniques for recipe co-optimization.This award reflects NSF's statutory mission and has been deemed worthy of support through evaluation using the Foundation's intellectual merit and broader impacts review criteria.
这个小企业创新研究(SBIR)第一阶段项目的更广泛的影响/商业潜力是,它将使自旋扭矩转移随机存取存储器(STT-RAM)和高效太阳能电池等尖端技术渗透到市场。目前,像这些技术的半导体应用面临着重大的纳米制造挑战。事实上,制造半导体器件是如此具有挑战性,以至于55%的新半导体产品无法满足其最初的发布日期,超过40%的开发项目超出了计划预算。通过虚拟配方开发环境,SBIR项目将使半导体芯片和设备制造商节省高达66%的工艺开发成本,通过三倍的开发周期获得市场份额,并实现下一代高性能,节能电子器件的工艺开发。拟议的项目将使用统计自学习推理算法、复杂的工艺模型和大量可用的晶圆厂数据来进行高精度的工艺预测,并实现创新纳米技术的大批量制造。将开发三个关键组件:(1)能够执行多个工艺目标的工艺预测和工艺设计的配方分析引擎,(2)用于纳米特征轮廓预测的形貌模拟器,以及(3)用于实时工艺开发决策的商业平台接口。这些组件将被设计为准确地捕获大型过程系统和多个过程目标,降低计算费用,并促进商业采用。这些创新将通过以下方式实现:(a)使用并行计算来减少计算费用,(B)开发降阶等离子体和表面动力学模型,(c)采用自适应算法来加速配方优化,及(d)使用不确定性分析技术,该奖项反映了NSF的法定使命,并通过使用基金会的智力价值进行评估,被认为值得支持和更广泛的影响审查标准。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Meghali Chopra其他文献

Optimal etch recipe prediction for 3D NAND structures
3D NAND 结构的最佳蚀刻配方预测
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Leandro Medina;Bryan E. Sundahl;Meghali Chopra;R. Bonnecaze
  • 通讯作者:
    R. Bonnecaze
Predicting and optimizing etch recipes for across the wafer uniformity
预测和优化蚀刻配方以实现整个晶圆的均匀性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Meghali Chopra;R. Bonnecaze;Yang H. Ban;Sofia Helpert
  • 通讯作者:
    Sofia Helpert
A model-based, Bayesian approach to the CF4/Ar trench etch of SiO2
基于模型的贝叶斯方法对 SiO2 进行 CF4/Ar 沟槽蚀刻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Meghali Chopra;Sofia Helpert;R. Verma;Zizhuo Zhang;Xilan Zhu;R. Bonnecaze
  • 通讯作者:
    R. Bonnecaze
A method to accelerate creation of plasma etch recipes using physics and Bayesian statistics
一种利用物理学和贝叶斯统计加速等离子蚀刻配方创建的方法
  • DOI:
    10.1117/12.2263507
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Meghali Chopra;R. Verma;Austin P. Lane;C. Willson;R. Bonnecaze
  • 通讯作者:
    R. Bonnecaze
Accelerated optimization of multilayer trench etches using model-based experimental design
使用基于模型的实验设计加速优化多层沟槽蚀刻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kara Kearney;Sonali N. Chopra;Xilan Zhu;Yang H. Ban;R. Bonnecaze;Meghali Chopra
  • 通讯作者:
    Meghali Chopra

Meghali Chopra的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Meghali Chopra', 18)}}的其他基金

SBIR Phase II: Disruptive Semiconductor Software Tool for Recipe Optimization for Deposition and Etching Processes
SBIR 第二阶段:用于沉积和蚀刻工艺配方优化的颠覆性半导体软件工具
  • 批准号:
    1951245
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant

相似国自然基金

Baryogenesis, Dark Matter and Nanohertz Gravitational Waves from a Dark Supercooled Phase Transition
  • 批准号:
    24ZR1429700
  • 批准年份:
    2024
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
ATLAS实验探测器Phase 2升级
  • 批准号:
    11961141014
  • 批准年份:
    2019
  • 资助金额:
    3350 万元
  • 项目类别:
    国际(地区)合作与交流项目
地幔含水相Phase E的温度压力稳定区域与晶体结构研究
  • 批准号:
    41802035
  • 批准年份:
    2018
  • 资助金额:
    12.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
基于数字增强干涉的Phase-OTDR高灵敏度定量测量技术研究
  • 批准号:
    61675216
  • 批准年份:
    2016
  • 资助金额:
    60.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
基于Phase-type分布的多状态系统可靠性模型研究
  • 批准号:
    71501183
  • 批准年份:
    2015
  • 资助金额:
    17.4 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
纳米(I-Phase+α-Mg)准共晶的临界半固态形成条件及生长机制
  • 批准号:
    51201142
  • 批准年份:
    2012
  • 资助金额:
    25.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
连续Phase-Type分布数据拟合方法及其应用研究
  • 批准号:
    11101428
  • 批准年份:
    2011
  • 资助金额:
    23.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
D-Phase准晶体的电子行为各向异性的研究
  • 批准号:
    19374069
  • 批准年份:
    1993
  • 资助金额:
    6.4 万元
  • 项目类别:
    面上项目

相似海外基金

SBIR Phase II: Disruptive Semiconductor Software Tool for Recipe Optimization for Deposition and Etching Processes
SBIR 第二阶段:用于沉积和蚀刻工艺配方优化的颠覆性半导体软件工具
  • 批准号:
    1951245
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Phase II IUCRC at UC San Francisco: Center for Disruptive Musculoskeletal Innovations (CDMI)
加州大学旧金山分校的第二阶段 IUCRC:破坏性肌肉骨骼创新中心 (CDMI)
  • 批准号:
    1916629
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
Phase II IUCRC at The University of Toledo: Center for Disruptive Musculoskeletal Innovations (CDMI)
托莱多大学 IUCCRC 第二阶段:颠覆性肌肉骨骼创新中心 (CDMI)
  • 批准号:
    1916636
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
Phase II IUCRC at Ohio State University: Center for Disruptive Musculoskeletal Innovations (CDMI)
俄亥俄州立大学 IUCRC 第二阶段:破坏性肌肉骨骼创新中心 (CDMI)
  • 批准号:
    1916651
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
Phase I IUCRC at The Ohio State University: Center for Disruptive Musculoskeletal Innovations
俄亥俄州立大学 IUCCRC 第一阶段:破坏性肌肉骨骼创新中心
  • 批准号:
    1822124
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SBIR Phase I: Optoelectronic Microplates: Disruptive Optical Stimulation Technology for Drug Discovery Screening Assays
SBIR 第一阶段:光电微孔板:用于药物发现筛选分析的破坏性光学刺激技术
  • 批准号:
    1746607
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SBIR Phase I: New Chitin/Alginate Biocomposites by Homogeneous Processing in Ionic Liquids: Disruptive Technology for Wound Care Application
SBIR 第一阶段:在离子液体中均质加工的新型甲壳素/藻酸盐生物复合材料:伤口护理应用的颠覆性技术
  • 批准号:
    1143278
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SBIR Phase II: Enabling Non-disruptive Updates in Order to Improve OS Security
SBIR 第二阶段:启用无中断更新以提高操作系统安全性
  • 批准号:
    1026735
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SBIR Phase IB: Enabling Non-disruptive Updates in Order to Improve OS Security
SBIR 阶段 IB:启用无中断更新以提高操作系统安全性
  • 批准号:
    1003559
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SBIR Phase I: Enabling Non-disruptive Updates in Order to Improve OS Security
SBIR 第一阶段:启用无中断更新以提高操作系统安全性
  • 批准号:
    0912531
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 22.48万
  • 项目类别:
    Standard Grant
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了