Elektronenstrahl-Lithographiesystem

EP3研究成果的总体分析是对中性运输材料和零部件的电子特性的研究。所有的工程项目都将纳米结构的特性引入到一种材料中。Hochmoderne Nanolithographie，deren Herzstück ein Elektronenstrahlithograhiesbildet，ist daher für nahezu alle Aktivitäten der Gruppe grundlegend. Unser bestehendes Lithographyesystem hat seit der Inbetriebnahme in Jahr 2000 gute Dienste geleistet，allerdings nähert sich nach 14 Betriebsjahren das Ende der erwarteten Lebensdauer und eine baldige Zunahme von Betriebsstörungen ist zu befürchten. Zu dieser Befürchtung kommt die Tatsache hinzu，dass schon jetzt viele Komponenten nicht梅尔verfügbar sind and das System nicht mit aktuellen Computer Betriebssystemen kompatibel ist.因此，这种系统并不需要通过一次修理就能得到梅尔的改进，而是需要更大的改进，或者从韦尔登中获得更大的改进。众所周知，近年来，光刻技术的发展水平一直很低，因此，我们的系统在新的技术水平上并没有找到梅尔的优势。这些都是在建筑物周围的所有建筑物上进行的，因此，在复杂的结构上控制了建筑物的变形。新的系统将建立在对纳米结构涡轮机的光刻技术的基础上，并将为我们提供更好的服务。

Die gesamten Anstrengungen des Forschungslehrstuhles EP3 sind auf die Erforschung der elektronischen Eigenschaften von neuartigen Transportmaterialien und Bauteilen ausgerichtet. Nahezu alle Projekte des Lehrstuhles beinhalten das Wachstum eines Materials, dessen Nanostrukturierung sowie die Charakterisierung der Nanostruktur. Hochmoderne Nanolithographie, deren Herzstück ein Elektronenstrahllithograhiesystem bildet, ist daher für nahezu alle Aktivitäten der Gruppe grundlegend. Unser bestehendes Lithographiesystem hat seit der Inbetriebnahme im Jahr 2000 gute Dienste geleistet, allerdings nähert sich nach 14 Betriebsjahren das Ende der erwarteten Lebensdauer und eine baldige Zunahme von Betriebsstörungen ist zu befürchten. Zu dieser Befürchtung kommt die Tatsache hinzu, dass schon jetzt viele Komponenten nicht mehr verfügbar sind und das System nicht mit aktuellen Computer Betriebssystemen kompatibel ist. Dies bedeutet, dass sich Systemschäden nicht mehr durch einfache Reparaturen beheben lassen, sondern leicht sehr teuer oder aus Kompatibilitätsgründen sogar unmöglich werden können. Hinzu kommt, dass sich der Stand der Technik in der Lithographie im vergangenen Jahrzehnt derart weiterentwickelt hat, dass sich unser System nicht mehr auf dem neuestem Stand der Technik befindet. Dies betrifft neben weiteren Aspekten vor allem Schreibgeschwindigkeit, Durchsatz, Auflösung bei der Bildgebung, sowie Kontrolle des Belichtungspfades bei der Erzeugung von komplexen Formen. Das neue System würde aufgebaut um das Bisherige zu ersetzen und würde uns auch für das kommende Jahrzehnt gestatten an der Spitze des Gebietes der Lithographie von Nanostrukturbauteilen zu stehen.