Elektronenstrahl-Nanolithographie-System

电子束纳米光刻系统

• 批准号: 281472355
• 金额: --
• 依托单位: Universität Stuttgart
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2014-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/281472355?language=en
• 关键词: Elektronenstrahl; Nanolithographie; System

Die Neuanschaffung soll die bisher am Institut bestehende über 25 Jahre alte Elektronenstrahllithographieanlage ersetzen. Diese war altersbedingt nicht mehr wirtschaftlich zu betreiben, die Aufwendungen für Instandhaltung und die Ausfallzeiten sind in den letzten Jahren kontinuierlich gestiegen. Mittlerweile ist die Anlage nicht mehr einsatzbereit, verschrottet und entfernt. Eine Wiederinstandsetzung war wirtschaftlich nicht mehr möglich.Nun soll eine moderne und wettbewerbsfähige Anlage beschafft werden. Aus diesem Grund fällt die Wahl auf ein Lithographiecluster, das sowohl Elektronen- wie auch Ionenstrahllithographie ermöglicht. Diese Gerätekombination sorgt für eine immense Erweiterung der Nanofabrikationsmöglichkeiten, die am Institut zur Verfügung stehen, und sichert so langfristig die internationale wissenschaftliche Konkurrenzfähigkeit der beteiligten Forscher.

新光刻技术在光刻技术研究所的应用[j] . 2005。2 . die Aufwendungen finstandhaltung and die Ausfallzeiten sind in den letzten Jahren kontinuierlich gestiegen。同时，我也将我的名字命名为“Anlage”，即“einsatzbereit”、“verschrottet”和“enterfert”。Eine Wiederinstandsetzung war wirtschaftlich night mehr möglich。在现代和wettbewerbsfähige中，我们都可以看到。as diesem Grund fällt die Wahl auf ein lithographicluster, as sowohl Elektronen- wie uch Ionenstrahllithographie ermöglicht。德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国德国