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Nanolithographie unterstützt durch Oberflächenplasmonen zur reversiblen Strukturierung photosensitiver, dünner Polymerfilme

表面等离子体支持的纳米光刻用于光敏聚合物薄膜的可逆结构

基本信息

批准号：
164333603
负责人：
Professorin Dr. Svetlana Santer
金额：
--
依托单位：
Institut für Physik und Astronomie
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Grants
财政年份：
2010
资助国家：
德国
起止时间：
2009-12-31 至 2015-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/164333603?language=en
关键词：
Nanolithographie unterst tzt durch Oberfl

项目摘要

In diesem Projekt soll die Aktuation dünner photosensitiver Polymerfilme auf der Nanometerskala als Antwort auf optische Stimuli untersucht werden, die von integrierten metallischen Strukturen ausgehen. Die Metallstrukturen fungieren dabei als nanoskopische Antennen, in denen Oberflächenplasmonen angeregt werden können. Ihr evaneszentes Nahfeld kann zu komplexen Intensitätsmustern hoher räumlicher Auflösung führen. Im Polymerfilm werden so Änderungen der Topographie, dielektrischen Konstanten etc. hervorgerufen, die aber reversibel ein- und ausgeschaltet werden können beispielsweise durch Änderung der Wellenlänge. Im Gegensatz zur direkten Belichtung mit Interferenzmustern ergeben sich in dieser neuartigen Konfiguration mehrere Vorteile. Da der Intensitätsverlauf nun ausschließlich durch die Metallstrukturierung bestimmt wird, kann durch eine einfache, homogene externe Belichtung eine Variation der Intensität im Polymerfilm sogar unterhalb der Beugungsgrenze der verwendeten Lichtwellenlänge erreicht werden. Mit nur einer Metallstruktur soll schließlich die Erzeugung mehrerer, verschiedener Intensitätsmustern möglich sein, indem man Polarisation, Wellenlänge und Einfallswinkel der Belichtung variiert. Dieser Aspekt ist für eine Vielzahl von Anwendungen interessant, wie etwa gerichteter Transport adsorbierter Nanoobjekte, Konstruktion variabler lithographischer Masken oder wiederbeschreibbarer Massendatenspeicher.

在该项目中，光敏聚合物薄膜在纳米材料上的应用与光学刺激下的抗蚀剂韦尔登的应用，使金属结构一体化。真菌金属结构在纳米尺度上是一种很好的材料，在表面等离子体中可以看到韦尔登。您的经验丰富的Nahfeld可以为您提供更复杂的强度测试。Im Polymerfilm韦尔登so Änderungen der Topographie，dielektrischen Konstanten etc. hervorgerufen，die aber reversibel ein- und ausgeschaltet韦尔登können beispielsweise durch Änderung der Wellenlänge.在这种新的配置中，干扰必须被用来指导正确的操作。通过金属结构的测量，强度测量可以通过一个单一的、均匀的外部因素来确定聚合物薄膜中强度的变化，从而使测量的光强度分布韦尔登。Mit努尔einer Metallstruktur soll schließlich die Erzeugung mehrerer，versedener Intensitätsmustern möglich sein，indem man Polarisation，Wellenlänge und Einfallswinkel der Belichtung variiert. Dieser Aspekt ist für eine Vielzahl von Anwendungen interessant，wie etwa gerichteter Transport adsorbierter Nanobjekte，Konstruktion variabler lithographischer Masken oder wiederbeschreibbarer Massendatenspeicher.