Ein molekularer Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN)

使用浸笔纳米光刻 (DPN) 制造电功能纳米结构的分子方法

• 批准号: 106701894
• 负责人: Professor Dr. Ulrich Simon
• 金额: --
• 依托单位: Lehrstuhl für Anorganische Chemie und Elektrochemie
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2008-12-31 至 2012-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/106701894?language=en
• 关键词: Ein; molekularer; Ansatz; zur; Herstellung

Das Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN) einen molekularen Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen auf isolierenden und halbleitenden Oberflächen zu entwickeln. Durch das Schreiben geeigneter Precursor-Tinten sollen die in Vorarbeiten entwickelten chemischen Methoden genutzt werden, um Metalle und Metalloxide in Strukturen im Größenbereich < 50 nm auf Silicium-, Glas- oder Glimmeroberflächen zu schreiben und so funktionelle Demonstratoren zu entwickeln. Neben der Entwicklung von Methoden zur kontrollierten Materialabscheidung richtet sich der Fokus des Projektes auf die detaillierte Charakterisierung der Strukturen und auf die Untersuchung der Zusammenhänge zwischen den elektronischen Eigenschaften und der Mikrostruktur der geschriebenen Materialien. Damit soll in dem hier angestrebten Projekt die Lücke zwischen den etablierten chemisch-präparativen Methoden zur Herstellung von Nanostrukturen und dem parallelisierten, kostengünstigen und einfachen lithographischen Schreiben von Molekülen mittels DPN geschlossen werden, um auf diese Weise eine Art „DPN-Baukastensystem“ zur Herstellung einfacher Bauelemente zu schaffen.

Das Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN) einen molecular Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen auf isolierenden and halbleitenden Oberflächen zu entwickeln. Durch das Schreiben geeigneter Precursor-Tinten sollen die in Vorarbeiten entwickelten chemischen Methoden genutzt werden, um Metalle und Metallicide in Strukturen im Größenbereich < 50 nm auf Silicium-, Glas- oder Glimmeroberflächen zu schreiben und so funktionelle示威者 恩特维克恩。控制控制方法的材料研究和项目重点关注的结构细节和电子特征和微型结构的结构细节 geschriebenen Materialien。 Damit soll in dem hier angestrebten Projekt die Lücke zwischen den etablierten chemisch-präparativen Methoden zur Herstellung von Nanostrukturen und demparallisierten, kostengünstigen und einfachen lithographischen Schreiben von Molekülen mittels DPN geschlossen werden, um 这是一种艺术“DPN-Baukastensystem”，它是由设计师设计的。

项目成果

Challenging material patterning: fine lithography on coarse substrates.

具有挑战性的材料图案化：粗糙基板上的精细光刻

• DOI: 10.1002/sca.21126
• 发表时间: 2013
• 期刊: Scanning
• 作者: S. Gilles;A.-K. Steppert;M. Barth;L. Niewoehner;U. Simon
• 通讯作者: U. Simon