Ein molekularer Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN)

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Das Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN) einen molekularen Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen auf isolierenden und halbleitenden Oberflächen zu entwickeln. Durch das Schreiben geeigneter Precursor-Tinten sollen die in Vorarbeiten entwickelten chemischen Methoden genutzt werden, um Metalle und Metalloxide in Strukturen im Größenbereich < 50 nm auf Silicium-, Glas- oder Glimmeroberflächen zu schreiben und so funktionelle Demonstratoren zu entwickeln. Neben der Entwicklung von Methoden zur kontrollierten Materialabscheidung richtet sich der Fokus des Projektes auf die detaillierte Charakterisierung der Strukturen und auf die Untersuchung der Zusammenhänge zwischen den elektronischen Eigenschaften und der Mikrostruktur der geschriebenen Materialien. Damit soll in dem hier angestrebten Projekt die Lücke zwischen den etablierten chemisch-präparativen Methoden zur Herstellung von Nanostrukturen und dem parallelisierten, kostengünstigen und einfachen lithographischen Schreiben von Molekülen mittels DPN geschlossen werden, um auf diese Weise eine Art „DPN-Baukastensystem“ zur Herstellung einfacher Bauelemente zu schaffen.