Ionenstrahl-Nanolithographie-System

该研究所25年来一直致力于电子射线照相技术的研究。这场战争并没有改变梅尔更多的进步，独立运动的发展和失败都是在近几年来持续不断的管理中完成的。但这并不意味着它是梅尔最令人满意的、最好的和最好的。一个现代的建筑并不需要梅尔多的装饰。一个现代的、潮湿的建筑应该是韦尔登。从这颗行星上落下来的是一个石印群，这是一个电子--就像离子射线石印一样。Diese Gerätekombination sorgt für eine巨大Erweiterung der Nanofabrikationsmöglichkeiten，die am Institut zur Verfügung stehen，und sichert so langfristig die internationale wissenschaftliche Konkurrenzfähigkeit der beteiligten Forscher.

Die Neuanschaffung soll die bisher am Institut bestehende über 25 Jahre alte Elektronenstrahllithographieanlage ersetzen. Diese war altersbedingt nicht mehr wirtschaftlich zu betreiben, die Aufwendungen für Instandhaltung und die Ausfallzeiten sind in den letzten Jahren kontinuierlich gestiegen. Mittlerweile ist die Anlage nicht mehr einsatzbereit, verschrottet und entfernt. Eine Wiederinstandsetzung war wirtschaftlich nicht mehr möglich.Nun soll eine moderne und wettbewerbsfähige Anlage beschafft werden. Aus diesem Grund fällt die Wahl auf ein Lithographiecluster, das sowohl Elektronen- wie auch Ionenstrahllithographie ermöglicht. Diese Gerätekombination sorgt für eine immense Erweiterung der Nanofabrikationsmöglichkeiten, die am Institut zur Verfügung stehen, und sichert so langfristig die internationale wissenschaftliche Konkurrenzfähigkeit der beteiligten Forscher.