Ionenstrahl-Nanolithographie-System

在25Jahre Alte Elektronenstrahlstrahlre Elektronenstrahlagetzen的基础上，建立了一套新的光刻技术。这场战争不会改变我们之间的关系，也不会改变我们的生活，也不会改变我们的生活。这是一种古老的生活方式，也是一种特殊的生活方式。这场战争是一场伟大的战争，现代和湿润都是由我们自己定制的。这是一种光刻技术，也是一种新型的光刻技术。他说：“我的工作是把这些东西结合在一起，使之成为国际间的智慧之源。”

Die Neuanschaffung soll die bisher am Institut bestehende über 25 Jahre alte Elektronenstrahllithographieanlage ersetzen. Diese war altersbedingt nicht mehr wirtschaftlich zu betreiben, die Aufwendungen für Instandhaltung und die Ausfallzeiten sind in den letzten Jahren kontinuierlich gestiegen. Mittlerweile ist die Anlage nicht mehr einsatzbereit, verschrottet und entfernt. Eine Wiederinstandsetzung war wirtschaftlich nicht mehr möglich.Nun soll eine moderne und wettbewerbsfähige Anlage beschafft werden. Aus diesem Grund fällt die Wahl auf ein Lithographiecluster, das sowohl Elektronen- wie auch Ionenstrahllithographie ermöglicht. Diese Gerätekombination sorgt für eine immense Erweiterung der Nanofabrikationsmöglichkeiten, die am Institut zur Verfügung stehen, und sichert so langfristig die internationale wissenschaftliche Konkurrenzfähigkeit der beteiligten Forscher.