高精度回転テーブルによるフォトマスク円形状の高精度測定

使用高精度转台高精度测量光掩模圆形形状

基本信息

项目摘要

非接触・高精度な形状測定が可能な画像測定システムが、急速に普及しているが、その検査や校正に必要な基準器が必ずしも確立されていない。中でも、直径や幅の測定値の基準となる、フォトマスク直径・線幅の高精度な光学的測定には難しさが伴い、AFMやSEMによる測定が併用されている現状がある。フォトマスク直径・線幅の光学的測定で特に課題となるのが、測定系における幾何学的な誤差の低減と、フォトマスクのエッジ部における光学的な誤差の見積である。そこで、幾何学的な誤差の少ない測定装置の開発を行うとともに、光学的な誤差を電磁場解析によって見積もることにより、世界最高精度での直径測定装置の開発を目指す。令和4年度は、令和3年度に構築した測定機構をシステム化し、自動制御により測定を行うシステムを構築した。自己校正型ロータリエンコーダを搭載した回転テーブルを、自動的に一定角度ずつ回転させ、各停止位置で紫外線顕微鏡からのCCD画像を取り込み、各位置でのエッジ位置を検出する。また、同時にレーザ干渉計により、回転軸の平行移動を測定し、差し引きすることにより、各角度での半径を算出するシステムとした。半径値をつなぎ合わせて、円形状を創出することができた。また、構築した装置の精度検証を開始した。まず、回転ステージの回転位置決め精度を、国家標準にトレーサブルに校正されたポリゴン鏡を用いて評価し、校正値からの偏差量がp-v 0.37 arcsecと、十分な回転精度をもつことを確認した。また、高精度に作成された円形フォトマスクを試料としてシステム全体の測定性能の検証を開始した。現状では、サブマイクロメートルレベルの誤差を持っており、機構の安定性の向上、エッジ検出アルゴリズムの改良、解析方法の改良などが必要なことが分かった。
Non-contact, high-precision shape measurement is possible, rapid popularization is possible, and necessary reference devices for inspection and correction are required. It is difficult to use AFM and SEM in the measurement of diameter and amplitude with high precision. Optical measurement of diameter and amplitude is a special problem. The error of geometry is reduced. The error of optics is integrated. The development of diameter measuring device with the highest precision in the world is pointed out in this paper. In 2004 and 2003, the construction of the measurement mechanism and the automatic control mechanism were carried out. It is equipped with a self-correcting Rontari Einko monitor that can detect the background light, automatically detect the background light at a certain angle, retrieve the CCD image from the ultraviolet light microscope at each stop position, and detect the location of the camera at each position. The distance between the two axes is measured and the radius of each angle is calculated. The radius of the circle is equal to the radius of the circle. The accuracy test of the construction equipment is started. The accuracy of the position determination of the return line, the calibration of the return line and the deviation of the calibration line from the national standard are p-v 0.37 arcsec and 10 arcsec respectively. High precision test preparation and testing of the entire system. The status quo, the maintenance of errors, the improvement of stability of the mechanism, the improvement of the detection system, the improvement of the analysis method, the necessity of the analysis.

项目成果

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Calibration system for photomask roundness based on a precision rotary table
基于精密转台的光掩模圆度校准系统
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Mariko Kajima;Kentaro Sugawara;Yasuaki Hori;Tsukasa Watanabe
  • 通讯作者:
    Tsukasa Watanabe
高精度回転ステージを用いたフォトマスク真円度測定装置の開発
使用高精度旋转台的光掩模圆度测量装置的开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鍜島麻理子;菅原健太郎;渡部司
  • 通讯作者:
    渡部司
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鍜島 麻理子其他文献

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