Low-temperature direct bonding of beta-Ga2O3/diamond for advanced power electronics
用于先进电力电子的 β-Ga2O3/金刚石低温直接键合
基本信息
- 批准号:20K15044
- 负责人:
- 金额:$ 2.66万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份:2020
- 资助国家:日本
- 起止时间:2020-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Efficient heat dissipation from β-Ga2O3 film directly bonded on diamond substrate
直接粘合在金刚石基板上的 β-Ga2O3 薄膜可实现高效散热
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Matsumae;Y. Kurashima;H. Takagi;H. Umezawa;H. Watanabe;T. Ito;E. Higurashi
- 通讯作者:E. Higurashi
Heterogeneous direct bonding of diamond and semiconductor substrates using NH3/H2O2 cleaning
- DOI:10.1063/5.0026348
- 发表时间:2020-11-16
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:Fukumoto, Shoya;Matsumae, Takashi;Higurashi, Eiji
- 通讯作者:Higurashi, Eiji
福本将也 ,松前貴司,倉島優一,高木秀樹,梅沢仁,早瀬仁則,日暮栄治
福本雅也、松前隆、仓岛佑一、高木英树、梅泽仁、早濑仁、桧二英二
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:関本渉;藤井進;吉矢真人;NH3/H2O2洗浄処理した Si とダイヤモンド基板の直接接合
- 通讯作者:NH3/H2O2洗浄処理した Si とダイヤモンド基板の直接接合
Low-temperature direct bonding of diamond (100) substrate on Si wafer under atmospheric conditions
- DOI:10.1016/j.scriptamat.2020.09.006
- 发表时间:2021-01-15
- 期刊:
- 影响因子:6
- 作者:Matsumae, Takashi;Kurashima, Yuichi;Higurashi, Eiji
- 通讯作者:Higurashi, Eiji
Hetero-integration of β-Ga2O3 and Diamond substrates by hydrophilic bonding technique
通过亲水键合技术异质集成 β-Ga2O3 和金刚石基底
- DOI:10.1149/09804.0017ecst
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takashi Matsumae;Yuichi Kurashima;Hideki Takagi;Hitoshi Umezawa;Koji Tanaka;Toshimitsu Ito;Hideyuki Watanabe and Eiji Higurashi
- 通讯作者:Hideyuki Watanabe and Eiji Higurashi
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Matsumae Takashi其他文献
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温粘控制垫片的研发(加压条件下验证实验)
- DOI:
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- 影响因子:0
- 作者:
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風間俊治
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采用Au/Ta/Ti金属多层的简单低温真空封装工艺
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- 影响因子:1.5
- 作者:
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Higurashi Eiji
非接触形ガスケットの研究開発(予備実験の結果)
非接触式垫片的研究开发(初步实验结果)
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
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- 作者:
Kurashima Yuichi;Matsumae Takashi;Takagi Hideki;佐藤涼介,吉田政弘,花岡大生,福澤康;下山隼平;風間俊治;風間俊治;下山隼平 - 通讯作者:
下山隼平
Direct transfer of atomically smooth Au film onto electroplated patterns for room-temperature Au-Au bonding in atmospheric air
将原子级光滑的金膜直接转移到电镀图案上,用于大气中的室温金-金键合
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Kurashima Yuichi;Matsumae Takashi;Takagi Hideki - 通讯作者:
Takagi Hideki
Matsumae Takashi的其他文献
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