High-nonlinearity silicon nitride waveguide deposited by low-temperature LSCVD
High-nonlinearity silicon nitride waveguide deposited by low-temperature LSCVD
低温LSCVD沉积的高非线性氮化硅波导
批准号：
19K15054
负责人：
Kou Rai
金额：
$2.08万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2021-03-31
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100 oC deposited transparent silicon nitride film for O-band photonic applications
用于 O 波段光子应用的 100 oC 沉积透明氮化硅薄膜
用于 O 波段光子应用的 100 oC 沉积透明氮化硅薄膜
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[R. Kou, N. Yamamoto, G. Fujii, T. Aihara, T. Tsuchizawa, A. Ishizawa, K. Hitachi, H. Gotoh, M. Ukibe, K. Yamada]
通讯作者：
K. Yamada
DOI：
10.1364/oe.27.032058
发表时间：
2019-10-28
期刊：
OPTICS EXPRESS
影响因子：
3.8
作者：
[Kou, Rai, Kobayashi, Yuzuki, Yamada, Koji]
通讯作者：
Yamada, Koji
量子情報実験のための光導波路デバイス
用于量子信息实验的光波导器件
用于量子信息实验的光波导器件
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
電子情報通信学会論文誌C
影响因子：
--
作者：
[松田 信幸, 武居 弘樹, 清水 薫, William John Munro, 西 英隆, 福田 浩, 土澤 泰, 高 磊, 山田 浩治, 石澤 淳, 柏崎 貴大, 倉持 栄一, 谷山 秀昭, 納富 雅也, 小熊 学, 井藤 幹隆, 橋本 俊和]
通讯作者：
橋本 俊和
Spectrometric analysis of silicon nitride films deposited by low-temperature liquid-source CVD
低温液源 CVD 沉积氮化硅薄膜的光谱分析
低温液源 CVD 沉积氮化硅薄膜的光谱分析
DOI：
10.1063/1.5114675
发表时间：
2019
期刊：
Journal of Applied Physics
影响因子：
3.2
作者：
[R. Kou, N. Yamamoto, G. Fujii, T. Aihara, T. Tsuchizawa, A. Ishizawa, K. Hitachi, H. Gotoh, M. Ukibe, K. Yamada]
通讯作者：
K. Yamada
Si集積プラットフォームの非線形光学応用開拓
开发Si集成平台的非线性光学应用
开发Si集成平台的非线性光学应用
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
レーザー研究
影响因子：
--
作者：
[高 磊, 石澤 淳, 松田 信幸, 山田 浩治]
通讯作者：
山田 浩治
共 12 条
Demonstration of on-chip Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) system
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批准号：17K14676
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.66万
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财政年份：2017
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负责人：Kou Rai
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依托单位：