Hetero-junction devices of lattice matched alpha-(In1-xAlx)2O3 semiconductors
Hetero-junction devices of lattice matched alpha-(In1-xAlx)2O3 semiconductors
批准号:
19K22143
负责人:
Nishinaka Hiroyuki
金额:
$4.08万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-06-28 至 2021-03-31
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Growth of Metastable Rhombohedral Structured Oxides Using Alpha-Fe2O3 Buffer Layers via Mist CVD Method
通过雾气 CVD 方法使用 Alpha-Fe2O3 缓冲层生长亚稳态菱面体结构氧化物
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Shimazoe, H. Nishinaka, Y. Arata, Y. Ito, and M. Yoshimoto]
通讯作者:
and M. Yoshimoto
スピネル基板上に格子整合して成長したγ-(AlxGa1-x)2O3混晶薄膜の界面の結晶構造解析
尖晶石衬底上晶格匹配生长的γ-(AlxGa1-x)2O3混晶薄膜界面晶体结构分析
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[堀江 竜斗, 田原大祐, 西中浩之, 吉本昌広]
通讯作者:
吉本昌広
Van der Waals epitaxy of flexible ε- and α-Ga2O3 filmson cleaved mica by mist chemical vapor deposition
雾气化学气相沉积法在解理云母上范德华外延柔性 ε- 和 α-Ga2O3 薄膜
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Arata, H. Nishinaka, D. Tahara, K. Shimazoe, Y. Ito, M. Yoshimoto]
通讯作者:
M. Yoshimoto
Fabrication of Flexible and Epitaxial Metastable Ga2O3 Thin Films on Synthetic Mica Using OxideBuffer Layer
使用氧化物缓冲层在合成云母上制备柔性外延亚稳态 Ga2O3 薄膜
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Arata, H. Nishinaka, D. Tahara, K. Shimazoe, Y. Ito, M. Yoshimoto]
通讯作者:
M. Yoshimoto
曲げられる準安定Ga2O3薄膜のエピタキシャル成長
可弯曲亚稳态Ga2O3薄膜的外延生长
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[新田悠汰, 西中浩之, 田原大祐, 吉本昌広]
通讯作者:
吉本昌広
共 20 条
Research on Polarization-Controlled Ultra-Wide Bandgap Semiconductor Devices
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批准号:19H02170
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2019
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负责人:Nishinaka Hiroyuki
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依托单位:
Mist CVD method for inorganic-organic perovskites solar-cell
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批准号:15H06343
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项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额:$1.91万
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财政年份:2015
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负责人:Nishinaka Hiroyuki
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依托单位:
海外基金