Research on Polarization-Controlled Ultra-Wide Bandgap Semiconductor Devices
Research on Polarization-Controlled Ultra-Wide Bandgap Semiconductor Devices
批准号:
19H02170
负责人:
Nishinaka Hiroyuki
金额:
$11.23万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2022-03-31
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Ga2O3 の中間準位を利用した p 型伝導に向けた検討
使用中间能级 Ga2O3 研究 p 型传导
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Arata, H. Nishinaka, and M. Yoshimoto, 西中浩之, 西中浩之]
通讯作者:
西中浩之
ミストCVD法を用いて(-201) β-Ga2O3基板上に成長したκ-Ga2O3薄膜の構造解析
采用雾气CVD法在(-201)β-Ga2O3衬底上生长的κ-Ga2O3薄膜的结构分析
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[梶田優気, 西中浩之, 新田 悠汰, 吉本昌広]
通讯作者:
吉本昌広
新しい強誘電体ε-Ga2O3のエピタキシャル成長技術
新型铁电ε-Ga2O3外延生长技术
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[西中浩之, 田原大祐, 新田悠汰, 島添和樹, 野田実, 吉本昌広]
通讯作者:
吉本昌広
Bismuth-assisted effect for the growth of ε-Ga2O3 films grown on c-plane sapphire substrates by mist chemical vapor deposition
雾化化学气相沉积法在 c 面蓝宝石衬底上生长 ε-Ga2O3 薄膜的铋辅助效应
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[D. Tahara, H. Nishinaka, Y. Arata, S. Hasegawa, M Yoshimoto]
通讯作者:
M Yoshimoto
Alloying In2O3 and Ga2O3 on AlN templates for deep-ultraviolet transparent conductive films by mist chemical vapor deposition
AlN模板上合金化In2O3和Ga2O3雾气化学气相沉积制备深紫外透明导电薄膜
DOI:
10.35848/1347-4065/ac4688
发表时间:
2022
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Ogura Yuri, Arata Yuta, Nishinaka Hiroyuki, Yoshimoto Masahiro]
通讯作者:
Yoshimoto Masahiro
共 62 条
Hetero-junction devices of lattice matched alpha-(In1-xAlx)2O3 semiconductors
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批准号:19K22143
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.08万
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财政年份:2019
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负责人:Nishinaka Hiroyuki
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依托单位:
Mist CVD method for inorganic-organic perovskites solar-cell
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批准号:15H06343
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项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额:$1.91万
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财政年份:2015
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负责人:Nishinaka Hiroyuki
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依托单位:
海外基金